国产光刻机技术的持续突破 将促进半导体设备国产化
【化工仪器网 行业百态】按照市场监管总局等5部门于今年4月联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行)》，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备，是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。
为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》(以下简称《目录》)通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm)，和氟化氩光刻机(65nm)等集成电路关键生产设备。《目录》中的电子专用装备目录下提到，集成电路生产设备方面包括化氟化氪光刻机，光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm；氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
工信部的一份文件，将国产光刻机研发再度推入公众的视线。尽管上证指数在过去一周承压，但A股的光刻机板块上涨了近5%，成为近期表现比较亮眼的一个板块。仅9月18日当天，光刻机概念板块就上涨了5.35%，领涨A股所有概念板块。个股方面，同飞股份、波长光电录得20%的涨幅，新莱应材、蓝英装备、海立股份等股价均涨逾9%。龙头股张江高科一周累计上涨19.28%。
据业内人士分析，此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机，除了目前最先进的CPU、GPU、AI芯片外，普通工业级芯片的生产完全可以使用国产光刻机了。据华金证券研报，全球市场EUV光刻机销量逐步增长。根据各公司数据，2023年，全球前三大光刻机厂商销售共计681台，同比增长21.82%，销售量创历史新高，2024Q1全球前三大厂商共计销售光刻机139台。
国产光刻机技术的持续突破，让不少机构都在看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。业界普遍认为，官方披露核心设备进展也会在一定程度上提振市场信心，国产光刻机相关产业链也会受益。
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