退火爐是用于制造半導(dǎo)體元件的制程方法。該制程包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達(dá)到不同的效果??梢约訜峋约せ顡诫s劑,使沉積的膜至密化,并改變生長的膜的狀態(tài)。暴露在高溫下可以修復(fù)損壞。該過程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,也可以單獨(dú)處理。
退火爐技術(shù)參數(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
|
|
配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
|
|
您現(xiàn)在的位置:化工儀器網(wǎng)>采購中心>供應(yīng)信息
退火爐是用于制造半導(dǎo)體元件的制程方法。該制程包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達(dá)到不同的效果??梢约訜峋约せ顡诫s劑,使沉積的膜至密化,并改變生長的膜的狀態(tài)。暴露在高溫下可以修復(fù)損壞。該過程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,也可以單獨(dú)處理。
退火爐技術(shù)參數(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
|
|
配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
|
|