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EP3 nanofilm呈像橢偏儀

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 源順科技儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號 EP3
  • 產(chǎn)地 德國
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2018/5/14 9:00:00
  • 訪問次數(shù) 1748
產(chǎn)品標簽

呈像橢偏儀橢偏儀nanofilm

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源順有限公司

源順有限公司是一家專門從事納米科技,材料分析,光電產(chǎn)品檢測及生產(chǎn)設(shè)備銷售和技術(shù)咨詢的高科技公司。我們*代理具有*水平的分析儀器,產(chǎn)品涵蓋了微觀結(jié)構(gòu)觀察,物理性能,力學性能及電磁學性能。
Total Solution ,為客戶提供整體解決方案,是源順公司一貫堅持的宗旨。 這個宗旨象征*、品質(zhì)與客戶服務(wù),并將在新的世紀中,全面提升服務(wù)品質(zhì)以伴隨您的闊步發(fā)展。
源順公司秉持企業(yè)文化:『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『團隊』、『創(chuàng)新』,本著其宗旨『Total Solution』,繼續(xù)將*的技術(shù),以Z佳的成本效益,提供客戶*質(zhì)的精密分析儀器和生產(chǎn)設(shè)備,并堅持Z*的服務(wù)。

公司產(chǎn)品主要有:
LUM公司: 多功能的顆粒狀態(tài)與穩(wěn)定度分析儀
Qudix公司: 奈米 & 微米顆粒大小分析儀。
Scinco公司: 可見光及紫外光光度計(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在線粘度計。
ProRheo公司: 高階粘度計。
Rame-hart公司: 接觸角及表面張力分析儀。
AET 公司: 微波誘電分析儀
NANOFILM公司: 呈象橢偏儀,布氏角顯微鏡,LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 雙折射分析儀。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾筆式納米制程技術(shù)。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力顯微鏡(AFM)
Capres公司: MRAM,寫磁頭的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微區(qū)范圍的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (數(shù)字全析顯微鏡)
BEDE公司: 高分辨X射線衍射儀。
OMI公司: Solstice (晶圓或外延片的能階Bandgap分析,Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封裝應(yīng)變,3D熱機械變形及CTE分析)。
Pascal公司: 脈沖雷射濺鍍MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉積儀 (ALD).
EpiQuest公司: 研發(fā)型 MOCVD,MBE,VCSEL 氧化系統(tǒng)。


源順公司總部設(shè)在香港,在上海和北京設(shè)立了分公司,深圳和成都設(shè)立了辦事處,并有強大的技術(shù)和維修隊伍,為客戶提供Z高水平的產(chǎn)品和服務(wù)。

公司產(chǎn)品主要有:X射線衍射系統(tǒng);多功能穩(wěn)定度分析儀 ;奈米顆粒大小分析儀;光電制造和檢測系統(tǒng);粘度分析系統(tǒng);粒度及微流變分析系統(tǒng);數(shù)字全析顯微鏡;呈象橢偏儀,布氏角顯微鏡,LB 薄膜分析;接觸角及表面張力分析儀;沾筆式納米制程技術(shù);在線粘度計;原子薄膜沉積儀。

[EP3] 德國nanofilm公司于1991年開發(fā)出了世界上*臺Brewster角顯微鏡(BAM),該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來,nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產(chǎn)品以及相應(yīng)的配套儀器,其款的EP3橢圓偏振成相系統(tǒng)把橢圓偏振法與顯微鏡法相結(jié)合,為其進入到生物分析和微電子等新的研究領(lǐng)域提供了可能。 應(yīng)用領(lǐng)域: 橢圓光度法是一種非破壞性和無需標記的、用于確定膜厚和材料光學特性的方法。通過把橢圓光度法與顯微鏡法相結(jié)合,影像橢圓光度儀不斷改進,平面精度已經(jīng)能夠達到1μm,立體精度已提高到1nm,為其進入到生物分析和微電子等新的研究區(qū)域提供了可能。EP3是德國nanofilm公司zui近推出的新一代橢圓光度儀產(chǎn)品。主要應(yīng)用于以下各種*領(lǐng)域: 生物芯片:同次性、膜厚、雜交、動力學等測量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑:檢測LB膜的結(jié)構(gòu)、單層膜厚度、界面吸附等 接觸印刷:小于1μm微結(jié)構(gòu)的質(zhì)量控制、膜厚測量、測量折射率和吸附 磁盤:同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學產(chǎn)品磁光學結(jié)果的觀察 納米粒子:納米粒子上的一小塊區(qū)域、折射率和吸附的分布 聚合物:膜厚、折射率和吸附測量 主要特點 采用高精度回零橢圓光度法 出色的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法(多達若干cm2) 單一或多重的激光波長 新穎的自動測角計,用于入射角調(diào)整n EP3View軟件,用于儀器控制和基于Windows?的數(shù)據(jù)分析 多重關(guān)注區(qū)域及Δ,Ψ繪圖n 可通過局部網(wǎng)絡(luò)實現(xiàn)遠程控制和服務(wù) 技術(shù)參數(shù) 原理 PCSA 配置的自動回零( Auto-Nulling )圖像橢圓光度法 橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg   精度 0.01 deg (依賴于樣品與測量條件) 立體分辨率 1~35μm (平面解析精度: 1μm ,縱向解析精度: 1 nm ) 激光器波長 標準為 : 532 nm  可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時間 快, 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時間 圖像系統(tǒng) 768 x 572 像素 CCD 照相機 電子組件 內(nèi)置基于 Pentium 芯片的控制器,帶 Matrox Meteor II 抓圖器; 內(nèi)置 Linux 操作系統(tǒng);通過 100M 以太網(wǎng)與主機相連 電源 電壓: 100 – 240 VAC, 50/60Hz zui大電流 : 10 A

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