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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>光譜>微波等離子體光譜儀(MPT、MIP)>HK-2000 高靈敏度ICP光譜儀

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HK-2000 高靈敏度ICP光譜儀

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北京華科易通分析儀器有限公司是ICP光譜儀ICP等離子光譜儀單道掃描光譜儀微量元素光譜儀電感耦合等離子光譜儀的專業(yè)制造廠商,是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在傳統(tǒng)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收較早技術(shù)成果研究開發(fā)高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。公司以其多年從事這項(xiàng)科研技術(shù)隊(duì)伍的真誠(chéng)與共、協(xié)同發(fā)展不斷創(chuàng)新的團(tuán)隊(duì)精神為后盾,以其豐富的工作經(jīng)驗(yàn)和扎實(shí)的專業(yè)知識(shí)完善熱情的服務(wù)為保障,為廣大用戶提供解決方案。
HK-2000作為大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等,從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的*產(chǎn)品,具有測(cè)試速度快、測(cè)量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù),儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數(shù)據(jù)的采集、處理等都達(dá)到了目前國(guó)內(nèi)*水平,是諸多行業(yè)理想的分析儀器。

電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP-AES),ICP光譜儀,單道掃描光譜儀,微量元素分析儀器ICP,環(huán)保電鍍液分析ICP光譜儀,電池材料分析ICP光譜儀,離子膜燒堿ICP光譜儀.

    ICP光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的*產(chǎn)品,具有測(cè)試速度快、測(cè)量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)。
    公司生產(chǎn)的HK-2000HK-8100系列ICP光譜儀,是我司在傳統(tǒng)ICP光譜儀技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收技術(shù)成果研究開發(fā)的高精度、高靈敏度的ICP光譜儀,具有分析速度快、穩(wěn)定性高等*優(yōu)勢(shì)。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù),儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數(shù)據(jù)的采集、處理等都達(dá)到了目前國(guó)內(nèi)*水平,是諸多行業(yè)理想的分析儀器。通過多年的精心努力,我司產(chǎn)品已獲得國(guó)內(nèi)外眾多客戶的信任,尤其是在稀土、釹鐵硼、鎢鉬、鉭鈮、鋯鉿、碲、錫料、硅、有色金屬、飽和氯化鈉溶液、電池材料行業(yè)得到廣泛認(rèn)可,并成功出口俄羅斯、非洲、南美、中南亞等國(guó)家和地區(qū)。  

一、高靈敏度ICP光譜儀組成及工作原理

    ICP等離子體單道掃描光譜儀,是多元素順序測(cè)量的分析測(cè)試儀器。 該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈〈內(nèi)通冷卻水〉當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40MHz功率1KW左右)通過線圈時(shí),其周圍產(chǎn)生交變磁場(chǎng),使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子,在磁場(chǎng)作用下加速運(yùn)動(dòng)與其它中性原子碰撞,產(chǎn)生更多的電子和離子,在炬管內(nèi)形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達(dá)10000K以上。待測(cè)水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道。原子在受到外界能量的作用下電離,但處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定,從較高能級(jí)躍遷到基態(tài)時(shí),將釋放出巨大能量,這種能量是以一定波長(zhǎng)的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,計(jì)算通過控制步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)光柵,傳動(dòng)機(jī)構(gòu)將分光后的待測(cè)元素特征譜線光強(qiáng)準(zhǔn)確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)殡娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后,由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。

二、高靈敏度ICP光譜儀型號(hào)

HK-2000(準(zhǔn)確度達(dá)到國(guó)家*標(biāo)準(zhǔn))

三、技術(shù)指標(biāo)

(1) 分析速度快: 一分鐘分析zui快掃描20個(gè)元素以上

(2) 掃描范圍: 掃描范圍180~800nm、方式為正弦桿,由計(jì)算機(jī)控制的脈沖馬達(dá)驅(qū)動(dòng),zui小掃描步距0.0005nm

(3) 波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性:波長(zhǎng)示值誤差 ≤0.03nm 重復(fù)性 ≤0.005nm

(4) 相關(guān)系數(shù): ≥0.9998

(5) 精密度高: 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%

(6) 穩(wěn)定性: 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.0%

(7) 測(cè)量范圍: 超微量到常量

(8) 檢出限低: PPB級(jí)

(9) 分析元素范圍廣:可對(duì)72種金屬元素和部分非金屬元素(如B、P、Si、Se、Te)進(jìn)行定量或定性分析;基體效應(yīng)低動(dòng)態(tài)線性范圍寬,自吸收效應(yīng)低

(10) 測(cè)量方式: 單、多元素順序測(cè)量

(11) 功率: 800W—1200W 可調(diào)

(12) 操作便捷: 全新Windows XP下運(yùn)行的第三代多窗口升級(jí)中文或英文分析軟件速度更快,功能更全,多窗口多任務(wù)同時(shí)執(zhí)行(國(guó)內(nèi)獨(dú)此一家)

四、部件詳細(xì)參數(shù)

1、射頻發(fā)生器(RF

  1. 電路類型:電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐贰⑼S電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào),進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制
  2. 工作頻率:40.68MHz ± 0.05%
  3. 頻率穩(wěn)定性:≤0.1%
  4. 輸出功率:800—1200W
  5. 輸出功率穩(wěn)定性:≤0.3%
  6. 電磁場(chǎng)泄漏射強(qiáng)度:距機(jī)身20cm 電場(chǎng)強(qiáng)度E:<2 V / m

2、進(jìn)樣裝置

  1. 輸出工作線圈:內(nèi)徑25mm 、3匝
  2. 炬管:三同心型,外徑20mm的石英炬管
  3. 同軸型噴霧器:外徑6mm
  4. 雙筒型霧室:外徑34mm
  5. 觀測(cè)位置:縱向觀察高低和橫向觀察前后,可通過軟件直觀地調(diào)為*
  6. 氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:

      1等離子氣流量計(jì) (100-1000)L/h (1.616L/min)

      2輔助氣流量計(jì) (10100)L/h (0.161.66L/min)

      3載氣流量計(jì) (10100)L/h (0.161.66L/min)

      4載氣穩(wěn)壓閥 (00.4Mpa)L/h

      5冷卻水 水溫:1525 流量>5L/min 水壓>0.1Mpa 冷卻水:電阻率>1MΩ

3、分光器

  1. 光路: CzernyTurner
  2. 焦距: 1000mm
  3. 光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;刻線密度3600/mm,刻線面積:80×110mm(可選用刻線密度2400/mm,刻線面積:80×110mm)
  4. 線色散率倒數(shù): 0.26nm
  5. 分辨率: 0.008nm(整個(gè)波段)
  6. 掃描波長(zhǎng)范圍: 180500nm3600刻線/毫米  180800nm2400刻線/毫米
  7. 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)zui小步距: 0.0005nm
  8. 出射、入射狹縫:20μm×25μm
  9. 反射鏡規(guī)格: 78×105×16mm
  10. 透鏡: φ30, 1:1成像
  11. 反射鏡規(guī)格: 凹型
  12. 分光器恒溫裝置: 26℃±1

4、測(cè)光裝置

  1. 光電倍增管規(guī)格: R212UHR928
  2. 光電倍增管負(fù)高壓:2001000V 自動(dòng)調(diào)節(jié) 穩(wěn)定性<0.05%
  3. 光電倍增管電流測(cè)量范圍:10-4~10-9A
  4. 信號(hào)采集為V/F交換:1mV對(duì)應(yīng)100Hz
  5. 采樣電路:使用國(guó)外高精密度運(yùn)算放大器,使儀器的靈敏度和精確度大大提高
  6. 儀器數(shù)據(jù)采集:通過串口與電腦連接,從而簡(jiǎn)化了電路使連接更加便捷
  7. 測(cè)光方式:?jiǎn)巍⒍嘣仨樞驕y(cè)量

5、儀器操作軟件要求

1)操作系統(tǒng): Windows XP 操作平臺(tái)

2)測(cè)定波長(zhǎng)數(shù): 任意選擇

3)數(shù)據(jù)庫(kù): 譜線庫(kù)11萬條以上

4)多窗口: 在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品;

5)標(biāo)準(zhǔn)加入法: 軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用

6)分析模式: 軟件默認(rèn)*分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能

7)歷史數(shù)據(jù)庫(kù): 在歷史數(shù)據(jù)庫(kù)中,可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果

8)輸出數(shù)據(jù)要求:軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果

6、計(jì)算機(jī)及輸出設(shè)備

主機(jī)、顯示器、打印機(jī):根據(jù)用戶要求提供。

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