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日立分析儀器(上海)有限公司

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金屬元素 分析ICP光譜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京華科易通分析儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) 金屬元素
  • 產(chǎn)地 北京
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2017/12/5 2:49:26
  • 訪問次數(shù) 944
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微量元素光譜儀

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北京華科易通分析儀器有限公司是ICP光譜儀ICP等離子光譜儀單道掃描光譜儀微量元素光譜儀電感耦合等離子光譜儀的專業(yè)制造廠商,是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在傳統(tǒng)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收較早技術(shù)成果研究開發(fā)高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。公司以其多年從事這項(xiàng)科研技術(shù)隊(duì)伍的真誠(chéng)與共、協(xié)同發(fā)展不斷創(chuàng)新的團(tuán)隊(duì)精神為后盾,以其豐富的工作經(jīng)驗(yàn)和扎實(shí)的專業(yè)知識(shí)完善熱情的服務(wù)為保障,為廣大用戶提供解決方案。
HK-2000作為大型精密無(wú)機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等,從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的*產(chǎn)品,具有測(cè)試速度快、測(cè)量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù),儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數(shù)據(jù)的采集、處理等都達(dá)到了目前國(guó)內(nèi)*水平,是諸多行業(yè)理想的分析儀器。

電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP-AES),ICP光譜儀,單道掃描光譜儀,微量元素分析儀器ICP,環(huán)保電鍍液分析ICP光譜儀,電池材料分析ICP光譜儀,離子膜燒堿ICP光譜儀.

hk-8100單道掃描ICP光譜儀的詳細(xì)介紹:

hk-8100單道掃描ICP光譜儀的核心部分是高分辯率Czerny Turner單色儀光學(xué)系統(tǒng)。它配有3600刻線/mm或者4320刻線/mm的全息光柵,窄的入射狹縫及出射狹縫, 具有很高的分辯率和極低的雜散光,保證了系統(tǒng)在分析復(fù)雜基體樣品時(shí),受光譜疊加的影響減到zui小。采用直接驅(qū)動(dòng)裝置傳動(dòng)光柵,保證了極快的分析速度和好的重現(xiàn)性。采用40.68MHZ RF發(fā)生器以保證高的信號(hào)背景比(S/B)和很低的檢出限。采用新技術(shù)設(shè)計(jì)了優(yōu)良的檢測(cè)系統(tǒng),保證了分析質(zhì)量的可靠。以上這些特點(diǎn)使DGS-Ⅲ在等離子體發(fā)射光譜儀分析中具有非常好的檢出限和任意選擇分析元素的靈活性。從而可分析各種物資材料的樣品成分, 特別在各種高純材料及高純稀土的雜質(zhì)成分分析方面更具有優(yōu)勢(shì)。該儀器在分析指標(biāo)、穩(wěn)定性、分析速度、軟件等各方面的技術(shù)指標(biāo)均達(dá)到*水平。 

一、儀器整機(jī)主要性能參數(shù):
1、波長(zhǎng)范圍:190~500nm(3600L/mm光柵)或190~800nm(2400L/mm光柵);
2、分辨率: 0.006nm(3600L/mm光柵)或0.01nm(2400L/mm光柵);
3、波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性:波長(zhǎng)示值誤差≤0.02nm,重復(fù)性≤0.003nm;
4、掃描步距:0.0004nm;
5、重復(fù)性:RSD≤1.0%;
6、穩(wěn)定性:RSD≤1.5%;
7、檢出限:ppb級(jí);
8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;
9、線性范圍:7個(gè)數(shù)量級(jí)以上,且自吸效應(yīng)極低;
10、分析速度:每分鐘掃描25個(gè)元素以上;
11、等級(jí)證書:國(guó)家計(jì)量器具型式許可*(且遠(yuǎn)優(yōu)于*)。
12、必須有生產(chǎn)許可證:且規(guī)格要求滿足,測(cè)量范圍:190-500nm

二、儀器各部件詳細(xì)參數(shù):
射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐贰⑼S電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào),進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制;
(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;
(4)輸出功率:800~1200W;
(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2%;
(6)電磁場(chǎng)泄漏射強(qiáng)度:距機(jī)身20cm 處,電場(chǎng)強(qiáng)度:E<2 V / m。
進(jìn)樣裝置
(1)輸出工作線圈:內(nèi)徑25mm、3匝;
(2)炬管:三同心型,外徑20mm的石英炬管;
(3)同軸型噴霧器:外徑6mm;
(4)雙筒型霧室:外徑35mm;
(5)觀測(cè)位置:縱向觀察高低和橫向觀察前后,可通過軟件直觀地調(diào)為*;
(6)氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:
1、等離子氣流量計(jì):(100~1000)L/h (1.6~16L/min);
2、輔助氣流量計(jì):(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
3、載氣流量計(jì):(10~100)L/h (0.16~1.66L/min);
4、載氣穩(wěn)壓閥:(0~0.4Mpa)L/h;
5、冷卻水:水溫:15~25℃ 流量>5L/min 水壓>0.1Mpa 冷卻水:電阻率>1MΩ。
分光器
(1)光路:Czerny-Turner;
(2)焦距:1000mm;
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;刻線密度3600L/mm,刻線面積:80×110mm(或刻線密度2400L/mm,刻線面積:80×110mm);
(4)線色散率倒數(shù):0.26nm/mm;
(5)分辨率:≤0.006nm全波段;
(6)掃描波長(zhǎng)范圍:190~500nm,3600L/mm光柵;190~800nm,2400 L/mm光柵;
(7)掃描步距:0.0004nm;
(8)出射、入射狹縫:20μm×25μm;
(9)反射鏡規(guī)格:(78×105×16)mm;
(10)透鏡:φ30,1:1成像;
(11)反射鏡規(guī)格:凹型;
(12)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。
測(cè)光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;
(2)光電倍增管負(fù)高壓:-200~-1000V,自動(dòng)調(diào)節(jié),穩(wěn)定性<0.05%;
(3)光電倍增管電流測(cè)量范圍:10-4~10-12A;
(4)信號(hào)采集為V/F交換:1mV對(duì)應(yīng)100Hz;
(5)采樣電路:使用國(guó)外高精密度運(yùn)算放大器,使儀器的靈敏度和精確度大大提高;
(6)儀器數(shù)據(jù)采集:通過串口與電腦連接,從而簡(jiǎn)化了電路使連接更加便捷;
(7)測(cè)光方式:?jiǎn)巍⒍嘣仨樞驕y(cè)量。
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺(tái);
(2)測(cè)定波長(zhǎng)數(shù):任意選擇;
(3)分析速度:每分鐘25個(gè)元素以上;
(4)數(shù)據(jù)庫(kù):譜線庫(kù)11萬(wàn)條以上;
(5)多窗口:在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品;
(6)標(biāo)準(zhǔn)加入法:軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;
(7)分析模式:軟件默認(rèn)*分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能;
(8)歷史數(shù)據(jù)庫(kù):在歷史數(shù)據(jù)庫(kù)中,可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;
(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。
 

ICP稀土元素檢測(cè)光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域

稀土行業(yè):稀土元素,分辨率高、檢出限低;
 

硅工業(yè):磁性材料加工工業(yè);
 

冶金工業(yè):可分析對(duì)金屬材料質(zhì)量的影響很大AS、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質(zhì)元素;
 

地質(zhì)、礦石分析:巖石樣品中鈣、鎂、鈉、鐵、銅、錳、鋅、鈷、鎳、金、銀等元素的測(cè)定。

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