產地類別 | 進口 | 應用領域 | 農業,能源,電子 |
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薄膜厚度繪圖儀SRM是采用光譜反射儀技術的薄膜厚度分布測試儀器,可對樣品面積上的薄膜厚度繪圖獲得整面的薄膜厚度分布和薄膜厚度均勻性參數。
這款薄膜厚度繪圖儀具有較長工作距離,工作距離可調,超大樣品臺,可選光源等特點。
薄膜厚度繪圖儀特點
使用基于Windows的軟件易于設置和操作
直徑達300mm的各種幾何形狀襯底
各種類型的映射模式,如線性、極坐標、方形或任意坐標
**的光學和堅固的設計,實現***佳的系統性能
基于陣列的探測器系統,確保快速測量
地圖膠片厚度和折射率高達5層
系統配有全面的光學常數數據庫和庫
包括常用食譜
**的TFProbe軟件允許用戶為每張膠片使用NK表、色散或有效介質近似(EMA)。
可升級到具有模式識別的MSP(顯微分光光度計)標測系統,或用于在圖案化或特征結構上進行標測的大光斑
適用于多種不同厚度的基材
2D和3D輸出圖形和用戶友*的數據管理界面,帶有統計結果
以csv文件格式輸出映射結果
系統附帶長壽命燈具
所有USB通信和PC控制
薄膜厚度繪圖儀應用
半導體制造
液晶顯示屏測量
刑偵
生物膜測量
礦石地質分析
制藥醫學分析
光學鍍膜測量
功能薄膜MEMS測量
太陽能電池薄膜測量
薄膜厚度繪圖儀軟件操作界面
薄膜厚度繪圖儀軟件結果
薄膜厚度繪圖儀軟件三維展示
薄膜厚度繪圖儀參數
型號 | SRM100 | SRM300 | SRM500 |
探測器類型 | CCD or CMOS Array | CCD or CMOS Array | CCD or CMOS and InGaAs Array |
波長范圍 | 190-1100nm | 370-1100nm | 190-1700nm |
波長精度 | 0.01-3nm | 0.01-3nm | 0.01-3nm |
可測薄膜厚度范圍 | 5nm-50 µm | 20nm-1000 µm | 5nm -1000 µm |
厚度精度 | < 1? (1 sigma from 50 thickness readings for 1500? Thermal SiO2 on Si Wafer) | ||
樣品臺 | 黑色陽極氧化真空吸盤,典型的Rho Theta,尺寸緊湊,200mm、300mm或根據要求定制尺寸 | ||
工作距離 | ~ 20mm (從晶圓表面計算) | ||
測量時間 | 0.1ms-10s, 用戶可定義 | ||
用戶設置功能 | 波長范圍、波長點、積分時間、光譜平均數、平滑因子 | ||
通訊接口 | USB | ||
操作系統 | Both 32bit and 64 Bit, Win XP, 7, 8, 10 | ||
計算機***低配置 | Intel i3 or above with minimum 500 MB space, 4GB RAM | ||
供電要求 | 110– 240 VAC /50-60Hz, 1.5 A | ||
光源 | Deuterium + Tungsten Halogen | Tungsten Halogen | Deuterium + Tungsten Halogen |
光源強度 | Adjustable | Adjustable | Adjustable |
燈泡壽命 | 4000 hrs. | 10000 hrs. | 4000 hrs. |