| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 化工,电子 |
|---|
德国BUSCH废气处理系统
普旭真空为半导体、LCD及相关行业提供了应用广泛的新一代废气处理系统。卓效的废气处理技术提供净化到阈限值以下的气体，同时满足现有的和发展中的要求。
产品型号
Technology | Model | Capacity（SLM） | Applications | Gas |
Flameless Catalytic （AFC） | AFC 0500A | 500 | PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD | Flammable gases，water-soluble gases |
AFC 2000A | 2000 | AMOLED 6G CVD | ||
Wet-Plasma-Wet（APW） | APW 0500A | 500 | etch for PFCs | |
Burn-Wet （ABW) | ABW 0500A | 500 | CVD,etch for PFCs | |
Thermal-Wet （ATW) | ATW 0500A | 500 | ALD,CVD,DIEF | |
ATW 1000A | 1000 | ALD,CVD,DIFF,LCD | ||
ATW 3500A | 3500 | MO-CVD,EPI, LCD(7G) | ||
ATW 4000A | 4000 | MO-CVD,EPI, LCD(>8G) | ||
Wet(AWE) | AWE 0500A | 500 | metal etch | water-soluble gases |
AWE 0500AE | 500 | EPI(DCS,TCS) | ||
Semi-Dry (ASD) | ASD 0800A | 800 | etch for cost-saving |
无焰催化处理技术（AFC）
AFC是结合了无焰催化热氧化和湿法处理技术的高温催化剂系统。用于 集成到卓效单一系统中，旨在减少易燃，水溶性气体并使NF3可容纳高达3000SLM的高气流。
技术特点：
??在半导体应用和AMOLED流程中（使用大量生成气体和NF3的粉末）非常适合CVD工艺（使用NF3作为吹扫气体）。
??金属蚀刻应用的完备解决方案。
??由于电加热器和废气反应热，催化剂区域始终保持高温，而没有燃烧额外的燃料（LNG）。
??减少NOx生成
??粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区中
??降低了运行成本
??易于维护和滤芯更换
??触摸屏显示
湿法-等离子-湿法处理技术（APW）
APW是一个集成于单一系统的湿法-等离子-湿法处理技术的组合，是氧化物和多晶硅蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点：
??创新的湿法等离子分离设计
??耐用的反应堆等离子炬和电源设计
??具有高气体DRE（％）的稳定性能
??在废气进入等离子反应器之前，先将副产物和水溶性气体进行预湿区去除
??有效减少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??核心零件的使用寿命长和维护周期
??易于清洁和预防性维护
??触摸屏显示
燃烧-湿法处理（ABW）
ABW是集成于单一系统中燃烧和湿法处理技术的组合，旨在有效减少PFCs，是CVD和蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点：
??创新的快速燃烧湿室分离设计
??多个安全联锁
??燃烧室带有水冷壁机制的湍流火焰
??燃烧过程中可能产生的粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区
??有效减少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??性能稳定
??运行成本低
??易于清洁和预防性维护
??触摸屏显示
德国BUSCH废气处理系统
热式-湿法处理技术（ATW）
技术特点：
ATW将电热和湿法处理技术结合在一个系统中，该系统旨在容纳高达4000 SLM的总气流，是重粉生成和腐蚀性应用的理想选择。
??创新的快速热湿室分离设计
??多个安全联锁
??两种减排方法的组合，即热湿法（通过易燃和发火性气体的无焰热氧化改变工艺气体的化学性质）和水溶解（对于水溶性气体）
??易于清洁和预防性维护
??触摸屏显示
湿法处理技术（AWE）
技术特点：
AWE湿式洗涤器是适应高H2和金属粉末生成应用的理想选择。
??金属蚀刻应用的完备解决方案
??较高的安全性和正常运行时间
??四个独立的反应室，配备智能入口防止堵塞功能和强大的文丘里管装置
??内置水循环系统
??降低了运营成本
??触摸屏显示
采购中心
化工仪器网