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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機>MSC/SC1/2 CIF勻膠旋涂儀

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MSC/SC1/2 CIF勻膠旋涂儀

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企業歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發生產石墨電熱板以來, 先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發生產專業化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發、制造業務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發生產專為處理粉體樣品而設計轉瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發生產紫外臭氧清洗機系列產品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發制造業務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發成功。

◆ 2021 年,自主研發生產中試、生產型等離子清洗系列產品,完善了等離子產品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業愿景:

致力于為全球用戶提供專業的表面處理整體解決方案。

企業使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業伙伴在內的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產品特點

◆  CIF勻膠旋涂儀采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。

 7 寸全彩中英文互動操作觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配 10 個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置 選配 20 個可編程程序,每個程序下可設置 10 個勻膠梯度階段,最多 100 個階段。

 內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。

◆  多重安全保護電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;

雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實驗人員安全。

◆  樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險。

◆  一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

◆  符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計,取放樣品更方便。

 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用 PTFE 材料。旋涂托盤采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器 在苛刻條件下仍能正常運行。

◆  上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結構設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置。

◆  可選氮氣吹掃、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,提供更多的操作便利性。

◆  CIF勻膠旋涂儀適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。

技術參數

型號

MSC

SC1

SC2

轉速

0-10000rpm

0-10000rpm

0-10000rpm

加速度

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

轉速穩定度

±1%

±1%

±1%

勻膠時間

0-9999s

0-9999s

0-9999s

工作艙直徑

直徑 180mm

直徑 180mm

直徑 240mm

基片尺寸

圓片 Φ=6 吋,方片最大 105x105mm

圓片 Φ=6 吋,方片最大 105x105mm

圓片 Φ=8 吋,方片最大 140x140mm

外型尺寸

L245xW325xH215mm

L245xW325xH285mm

L305xW385xH285mm

包裝尺寸

L365xW445xH335mm

L365xW445xH405mm

L425xW505xH405mm

整機重量

6.3Kg

7.6Kg

11.6Kg




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