Sentech激光橢偏儀與干涉膜厚儀-Se500adv

SE 500adv結合了橢偏儀和反射儀，除了測量透明膜層厚度的模糊性。它把可測量的厚度擴展到25m，因此SE 500adv擴展了標準激光橢偏儀SE 400adv的能力，特別適用于分析較厚的介質膜、有機材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

橢偏測量和反射測量的結合允許通過自動識別循環厚度周期來快速且明確地確定透明膜的厚度。

寬測量范圍

激光橢偏儀和反射儀的結合將透明薄膜的厚度范圍擴展到25μm，更多地取決于光度計的選項。

擴展激光橢偏儀的極限

性能優異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。

測量太陽能電池硅片上的增透膜的厚度和折射率，是生產高性能太陽能電池的先決條件之一。橢偏儀測量因為其快速和非接觸光學測量方法，適合用來測量膜厚和折射率。但是，多晶硅的粗糙表面明顯降低測量效果，甚至根本不能測量。SENTECH公司開發了高靈敏度和可靠度的632.8 nm單波長橢偏儀，適合分析太陽能電池上的增透膜。高穩定性補償器被用來測量反射光的橢偏角并用來證實*測量的橢偏數據的有效性。樣品是不同的多晶硅上的氮化硅減反射膜。該領域的儀器已經能夠測量其膜層的厚度和折射率。

SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此，它提供了標準激光橢偏儀從未達到的大靈活性。作為橢偏儀，可以進行單角度和多角度測量。當用作膜厚探針時，在正常入射下測量透明或弱吸收膜的厚度。

SE 500adv中的橢偏測量和反射測量的組合包括橢圓測量光學部件、角度計、組合反射測量頭和自動準直透鏡、樣品臺、氦氖激光光源、激光檢測單元和光度計。

SE 500adv的選項支持在微電子、微系統技術、顯示技術、光伏、化學等領域的應用。

SE 500adv可按三種模式操作,比通用橢偏儀具有更好的靈活性:

橢偏儀模式:用632.8 nm激光測量1到3層膜的光學系數和膜厚

膜厚儀模式:用白光反射干涉原理測量單層或多層的透明或弱吸收膜（膜的光學常數已知)

CER模式:自動識別透明膜的測量周期,可確定透明膜的Cauchy相關系數

可選項：

Mapping自動掃描：50×50~300 × 300 mm2

自動準直： 高度/俯仰自動調節

自動角度計： (20°) 40° - 90°

微細光斑：直徑30 um

視頻攝像頭：數字Camera

樣品液體池：液體可流動、可加熱

橢偏分析軟件：SpectraRay / 4

標準片各種厚度