泰勒·霍普森CCI HD非接觸式白光干涉輪廓儀

一；HD適合用于制造和研究領(lǐng)域，可測量厚度至1.5微米的厚膜及厚度至50納米的薄膜涂層。

CCI HD 是一種非接觸式光學(xué) 3D 輪廓儀，具有測量薄膜和厚膜的功能。 它采用享有**的新型關(guān)聯(lián)算法，來查找由我們的精密光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的干涉圖的相干峰和相位。 這種新型的 CCI HD 整合了世界**的非接觸式尺寸測量功能和良好的厚薄膜測量技術(shù)。CCI HD 除了提供尺寸和粗糙度測量功能，還可以提供兩種類型的膜厚測量。 近年來厚膜分析被用于研究厚度至約 1.5 微米的半透明涂料；測量的厚度限制取決于材料的折射率和標(biāo)的物的 NA。 測量較薄的涂層被證實為難度更高。現(xiàn)在通過干涉測量法可以研究厚度至 50 納米（同樣取決于折射率）的薄膜涂層。 采用這種新型方法，可以在單次測量中研究膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷以及薄涂層表面的剝離等特性。

1.2048 x 2048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.全量程0.1埃的分辨率
3.適用于0.3% - 100%的表面反射率
4.<0.2?strom RMS重復(fù)性，<0.1％臺階高度重復(fù)性
5.多語言版本的64位控制和分析軟件
6.2.2 mm垂直范圍，帶閉環(huán)無壓電Z軸掃描儀
7.AutoStitch作為標(biāo)準(zhǔn)配置，可高分辨率測量大型零件

二:CCI MP-HS非常適合用于研究領(lǐng)域，從非常粗糙的表面到非常光滑的表面，任何類型的表面它都能測量，因而具備測量各種元件的能力。

無論測量的是何種元件，無論對分析速度的要求有多高，我們創(chuàng)新的CCI MP-HS非接觸式光學(xué)輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結(jié)果。 一百萬高速相機與1/10埃垂直分辨率相結(jié)合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量非常光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。CCI MP-HS大大地擴展了分析能力，同時又不至于讓分析程序變得更復(fù)雜。 您可以測量各種各樣的元件和表面，不需要進行復(fù)雜的測量模式切換，也不會給中間透鏡的校準(zhǔn)增加額外的負擔(dān)。 通過標(biāo)準(zhǔn)化的方法、程序和報告，CCI MP-HS可輕松地整合到您的質(zhì)量管理系統(tǒng)中。

1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.高級X、Y、Z拼接，擴展量程
3.RMS重復(fù)精度<0.2 埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%
4.整合抗振，優(yōu)化抗噪性能
5.多語言版本的Windows，64位軟件

三:CCI MP 是一種多功能的非接觸式 3D 輪廓儀，可測量拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺階面。

CCI MP是一種高級的測量干涉儀（非接觸式3D輪廓儀）。 它采用享有**的新型關(guān)聯(lián)算法，來查找由我們的精密光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的干涉圖的相干峰和相位。CCI MP對于很多需要進行高精度3D輪廓分析的應(yīng)用非常有用。 轉(zhuǎn)臺上可以同步裝配各種各樣的標(biāo)的物，因而可測量多種類型的表面。 自動的工作臺和自動測量程序進一步增強了測量的靈活性。CCI MP非接觸式3D輪廓儀的一個關(guān)鍵優(yōu)勢就是功能多、用途廣。 反射率為0.3%至100%的拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺階面，都能使用一種算法進行測量，不需要為不同的表面改變模式，也不用擔(dān)心會選擇錯誤的模式。 可測量的材料類型包括： 玻璃、液體墨水、光刻膠、金屬、聚合物和糊劑。

1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.經(jīng)過改良的新型X、Y、Z拼接，量程多達100毫米
3.RMS重復(fù)精度<0.2埃，階躍高度重復(fù)精度<0.1%
4.全量程埃級分辨率
5.多語言版本的Windows 7，64位軟件