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日立分析儀器(上海)有限公司

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便攜拉曼光譜分析儀

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公司介紹

OtO超微光學 ( OtO Photonics Inc.)主要從事光譜儀的開發,以及光譜技術之應用。我們擁有完整的光學設計,微機電技術,機械工程,電子電機及軟體設計之人才,藉由光譜核心技術,整合不同領域之專業知識,提供給客戶完整的服務。

OtO超微光學長期專注于發展結合微機電(MEMS)的精密光學技術,擁有*的熱動態平衡技術(Dynamic Thermal Equilibrium, DTE)、半導體微型光柵技術、強大的消雜散光演算法、連續高速曝光模式,及豐富的系統整合經驗。

 

有別于一般的做法,除了自我產品技術開發之精進外,更利用本身所累積之技術與能力,協助客戶開發其各自領域產品之應用,使「技術創新」與「創新應用」的核心價值與競爭優勢得以落實,并進而創造新的市場及價值。                                 

隨著科技的發展,光機電整合的產品將成為接下來大眾所期待的焦點,OtO超微光學已經具備了完整的基礎知識及相當應用的累積,我們期許自己在接下來的挑戰當中,發揮完整的團隊實力與客戶共同攜手,以創造較大利益。

 

*品質

本公司目前獲有CE、FD與符合RoHS等認證。在制程上已全面導入電腦輔助精準度調校,所有輔助調整工具,輔助對位軟硬體,以及即時自動回饋精準值(分辨率、波長準確度、雜散光比例、光感應強度等)之確認軟硬體都由本公司研發人員自行開發完成,不僅大幅節省了人工對位與調校的成本,也排除人工操作的錯誤,增加產品*性。因此,本公司提供給客戶的光譜儀,其機差規格與品質*性已達Z嚴。

 

在自我測試方面,除自備恒溫恒濕監控測試系統之外,并與本公司之法人股東(上市光學公司)締結長期合作關系,所有產品皆藉由他們的標準環測實驗室通過嚴苛的撞擊,震動,甚至掉落測試。

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經營團隊

OtO超微光學具有多年的光學技術研發的經驗,把商品朝向更輕量化一直是我們的使命。為了達到此目標,其中的Z重要的技術核心是「微型晶片光學結構」取代一般光譜儀的「準直面鏡 - 平面光學結構 - 聚焦面鏡」。架構中,且以單一元件與Z小體積完成分光和聚焦功能,并達成2奈米之內光譜解析率同時在堅強的軟體研發團隊支援下,我們自行開發了光學演算法,高精密的半導體制程及光機電的整合能力,簡化光學結構來達到縮小光機體積的目的,并達到與大型光譜儀等級的相同解析度。因為光譜儀微型化,使得其應用更可擴大至四大產業,包含光電檢測,環境監控,色彩偵測及生醫量測等。因每一個產業都具有檢測的需要,相信微型光譜的誕生可帶動光譜分析元件及光電相關產業的發展。

滿足客戶需求是我們經營的方針,中國臺灣超微光學持續導入高附加價值產品,擴增產品線及光譜產品之應用,以優良的品質,迅速交期,以及嚴格成本控制作為經營原則,使消費者可以得到完善的服務品質。

 

 

 

 

 

 

   

光譜儀, 光纖光譜儀, 近紅外光譜儀, 拉曼光譜儀, 光譜儀配件

應用領域 生物產業,農業

響尾蛇系列制冷型 (Sidewinder - TE cooled) 便攜拉曼光譜分析儀是由 InGaAs 線型傳感器加上 32bits RISC 微控制器組成,專門設計用于檢測近紅外光譜。擁有精簡架構及最佳化之光譜分析核心。在光譜量測上,其光學架構能提供提供十分堅固及穩定的量測性能,尤其是在解析度及波長飄移上有優異的溫濕度、震動、與撞擊穩定性。

響尾蛇制冷型 SW 8系列 (SW2830),擁有TECooling一階制冷功能。

響尾蛇制冷型 SW 9系列,波段范圍900~2500nm(SW2960),擁有TECooling二階制冷功能。

擁有不錯性能與敏捷系統設計的便攜拉曼光譜分析儀近紅外光譜儀:

1、最小制冷型近紅外光譜儀,體積僅130  x 96  x 55  mm3

2、SW2960 為高階近紅外光譜機種,最大光譜范圍為900~2500nm

3、高感度、高訊噪比、高分辨率

4、TEC一階制冷(SW2860)、二階制冷(SW2960)

5、高規格應用市場*競爭力的價格

6、可選擇高增益(High Gain)或低增益(Low Gain)模式,高增益的平均感度較低增益約18倍左右

7、1064nm拉曼、膜厚、食品、制藥、環境及生化檢測應用選擇

8、SMA905, FC/PC 接頭可選配

SW-TEC傳感器選擇 :

型號  SW2860 SW2960
傳感器 256 pixels 256 pixels
TE-Cooled 一階制冷
(環境溫度25℃
可降至0℃)
二階制冷
(環境溫度25℃
可降至-15℃)
波長范圍 900 - 1700 nm 900 - 2500 nm
光學分辨率 狹縫
50um
~7nm, Avg.:4.5 ~15nm, Avg.:10
狹縫100um ~10nm Avg.: 8.5 ~21nm, Avg.:18
積分時間 高增益
模式
100 μs ~ 24s 100us-20ms
低增益
模式
100 μs ~ 24s 100us-200ms
訊雜比 高增益
模式
na.(>2500) 1000
低增益
模式(default)
na.(>5000) 2000
暗噪聲 高增益
模式
na.(<18) 30
低增益
模式(default)
na.(<18) na. (<30)
動態范圍 高增益
模式
na.(~5000) na.(~3640)
低增益
模式(default)
na.(>5000) na. (>3640)
波長準確度    <1nm <1nm
光信息參數 V
及時運算 V
連續高速曝光 V

SW系列 提供兩種不同感度模式選擇:高增益(High Gain)與低增益(Low Gain)

SW 8號系列,開啟制冷與非制冷功能之差異:

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