產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,能源,電子,制藥 |
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清洗頻率 | 13.56MHz |
高校實驗室用鄭科探滾筒等離子清洗機
等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備,是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目的。
此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備,通過旋轉機構帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。
高校實驗室用鄭科探滾筒等離子清洗機
要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
高校實驗室用鄭科探滾筒等離子清洗機
該清洗機內置高純石英倉體,采用了新型的電極結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空 氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。