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全自动离子溅射仪

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溅射仪喷金仪

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      江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以 高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术 力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现, 在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可 靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制 化服务的供应商

      公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology®是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、 烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;L EB O science®是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、 去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。 公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光 电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技 术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。

 

匀胶机、显影机、烤胶机、刻蚀机、清洗机

产地类别 国产 价格区间 5万-10万
控制方式 触屏控制 样品仓尺寸 直径150mm*高度130mmmm
样品台尺寸 直径55mmmm 应用领域 化工,生物产业,能源,电气,综合
  全自动离子溅射仪工作原理:
 
  直流冷阴极二极管式,靶材处于常温,加负高压1-3kv,阳极接地。当接通高压,阴极发射电子,电子能量增加到1-3kev,轰击低真空中(3-10pA)的气体,使其电离,激发出的电子在电场中被加速,继续轰击气体,产生联级电离,形成等离子体。离子以1-3kev的能量轰击阴极靶,当其能量高于靶材原子的结合能时,靶材原子或者原子簇,脱离靶材,又经过与等离子体中的残余气体碰撞,因此方向各异,当落在样品表面时,可以在粗糙的样品表面形成厚度均一的金属薄膜,而且与样品的结合强度高。如果工作室中的气体持续流动,保持恒定压力,这时的离子流保持恒定。高压的功率决定了最大离子流,一般有最大离子流限制,用于保护高压电源。
 
  全自动离子溅射仪的操作:
 
  一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。
 
  离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。
 
  加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。
 
  有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!
 
  真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。
 
  气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。
 
  保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。
 
  不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。


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