光刻机,镀膜机,磁控溅射镀膜仪,电子束蒸发镀膜仪,开尔文探针系统(功函数测量),气溶胶设备,气溶胶粒径谱仪,等离子增强气相沉积系统(PECVD),原子层沉积系统(ALD),快速退火炉,气溶胶发生器,稀释器,滤料测试系统
供货周期 | 一个月 | 应用领域 | 电子 |
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主要用途 | 光刻工艺用的化学品 |
负性光刻胶 (SU-8)-光刻机用
SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,环氧树脂类负性光刻胶。
具有垂直侧壁的高纵横比成像
近紫外(350-400nm)处理
单旋涂膜厚度为1.5至200µm
高度耐化学性和耐温度性
与已建立的SU-8光刻工艺兼容
微机械加工微电子应用
高对比度环氧树脂负片光刻胶
具有垂直侧壁的高纵横比成像
近紫外(350, 400nm)处理
单层旋涂膜厚度为0.5至200µm
高度耐化学性和耐温度性
兼容既定的SU8光刻工艺
负性光刻胶 (SU-8)-光刻机用
ENPR Series | Viscosity (cP) | Thickness (um) | Exposure Energy (mJ/?) |
C5 | 53 | 4 - 8 | 100 - 120 |
C7 | 165 | 6 - 13 | 110 - 125 |
C10 | 455 | 9 - 21 | 120 - 140 |
C15 | 1500 | 13 - 46 | 125 - 180 |
C25 | 5490 | 18 - 70 | 135 - 200 |
C50 | 15900 | 40 - 155 | 165 - 295 |
C75 | 27200 | 60 - 240 | 190 - 360 |