1. 产品概述

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。百科：?离子束刻蚀系统（IBE）是一种物理刻蚀技术，利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，并通过阳极电场加速的离子束对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的目的。?离子束刻蚀（IBE），也称为离子铣（Ion Beam Milling），是一种具有强方向性的物理刻蚀机理，能够产生各向异性刻蚀，适用于小尺寸图形的加工。

2. 设备特点

磁阻式随机存取存储器（MRAM）；

介电薄膜；

III-V族光电子材料刻蚀；

自旋电子学；

金属电极和轨道；

超导体；

激光端面镀膜；

高反射（HR）膜；

防反射（AR）膜；

环形激光陀螺反射镜；

X射线光学系统；

红外（IR）传感器；

II-VI族材料；

通信滤波器。