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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备>customized-14 深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH
深硅刻蚀系统刻蚀设备刻蚀系统OXFORD
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
冷热台，快速退火炉，光刻机，纳米压印、磁控溅射，电子束蒸发
1. 产品概述
提供深硅蚀刻（DSiE）领域的MEMS，封装和纳米技术的广泛应用，从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀，不需要更换腔室硬件就可以实现。百科：深硅刻蚀系统的原理既包括利用等离子体中的活性粒子进行物理和化学作用的等离子体刻蚀技术，也包括通过化学反应去除材料的湿法刻蚀技术。
2. 设备特点
光滑侧壁工艺；
高刻蚀速率腔刻蚀;
高深宽比工艺;
锥形通孔刻蚀;
机械或静电压盘,加热内衬;
延长了两次清洗间的平均时间间隔（MTBC）环形激光陀螺反射镜;
X射线光学系统;
红外（IR）传感器;
II-VI族材料，通信滤波器。
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