一、產品概述：

工業顯微鏡是一種用于觀察和分析材料表面及內部結構的精密光學儀器。它廣泛應用于材料科學、電子制造和質量控制等領域，能夠提供高倍放大率和清晰的圖像，以幫助用戶進行細致的觀察和檢測。

二、設備用途/原理：

·設備用途

工業顯微鏡主要用于金屬、塑料、陶瓷等材料的表面缺陷檢測、微觀結構分析以及焊接接頭的質量評估。它還被廣泛應用于電子元件的檢查和故障分析，確保產品的質量和可靠性。

·工作原理

工業顯微鏡通過光學系統將樣品的微小細節放大，使用高分辨率的鏡頭和照明系統，使得用戶能夠清晰地觀察到樣品的微觀結構。顯微鏡通常配備有多種放大倍率和照明模式，能夠適應不同類型的樣品和檢測需求。通過觀察放大的圖像，用戶可以進行詳細的分析和記錄，為后續的研究和質量控制提供依據。

三、主要技術指標：

1. 支持通過光學顯微鏡或圖像測量儀（如Nikon NEXIV），對直徑為6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半導體晶圓的創新設計和材料進行全面檢測

2. 良好的半導體晶圓裝載機系列，能夠將直徑為6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的晶圓轉移到厚度為100微米（工廠制造選項）的尼康Eclipse L200N和LV150N顯微鏡或NEXIV VMZ-S視頻測量儀器上

3. NWL200系列與尼康NEXIV影像測量儀器集成在一起，可在半導體生產和檢測過程中快速提供全精度和準確度

支持半導體晶圓圖案側、后周邊和中心區域檢測。可自動或手動設置晶圓旋轉速度和傾斜角度