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SE 400adv 多角度激光橢偏儀

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業文化,我們始終為用戶提供專業的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

產地類別 國產 應用領域 化工,電子

亞埃精度

多角度激光橢偏儀穩定的氦氖激光器保證了0.1埃精度的超薄單層薄膜厚度測量。

擴展激光橢偏儀的極限

多角度激光橢偏儀性能優異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。

高速測量

我們的激光橢偏儀SE 400adv的高速測量速度使得用戶可以監控單層薄膜的生長和終點檢測,或者做樣品均勻性的自動掃描。


激光橢偏儀SE 400adv可用于從可選擇的、應用特定的入射角度表征單層薄膜和基片。自動準直透鏡確保在大多數平坦反射表面的吸收或透明襯底上進行準確測量。多角度測量的集成支持(40°—90°,5°步進),可用于確定層疊的厚度、折射率和消光系數。為了補償激光橢偏測量中厚度測量的模糊性,在厚度測量中也采用了多角度測量。

SENTECH激光橢偏儀SE 400adv,用于超薄單層薄膜的厚度測量。小型臺式儀器由橢偏儀光學部件、角度計、樣品臺、自動準直透鏡、氦氖激光光源和檢測單元組成。我們的激光橢偏儀SE 400adv的選項支持在微電子、光伏、數據存儲、顯示技術、生命科學、金屬加工等領域的應用。


Atomic layer deposited Al2O3 on silicon waferMulti-angle measurement for determining thickness of SiO2 / Si3N4 / Si (substrate)Manual goniometer with 5°-stepsSE 400adv with controllerX-y mapping stageLaser ellipsometer with microspot optionLaser ellipsometer SE 401adv for in-situ measurement in plasma process technologyLaser ellipsometer with liquid cell




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