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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备>RIE-10NR 日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备

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RIE-10NR 日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备

参考价10000000-20000000/件
具体成交价以合同协议为准

联系方式:杨经理查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


似空科学仪器(上海)有限公司是一家仪器设备的经销商。我们致力于为中国制造业和研发机构提供高精度、符合人体工学设计的仪器设备。我们也梦想有朝一日,能够充分掌握市场需求,深刻理解仪器设备的技术原理,聚集一批有激情、有理想、有技术的人,为中国的制造业升级以及中国科研走向世界,提供自有知识产权的先进仪器设备!
仪器设备发展的是探测手段和传感器不对被测目标产生任何干扰,企业管理的是一切以市场为核心,不以自我的意愿抗拒市场的趋势,代替客户的喜好,于是我们取名“似空”,希望以忘我的精神服务客户。

 

失效分析,芯片开封,表面观测,金相研磨,光学及视频显微镜,超声波检测,X射线检测,激光微纳加工等

晶圆尺寸 8英寸 尺寸 500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)
反应室尺寸 φ340mm

 

反应离子刻蚀机

SAMCO RIE-10NR

 





简介:

RIE-10NR是一种新型的低成本、
高性能、全自动反应离子刻蚀系统,
能够满足非腐蚀性气体化学最KE刻
的工艺要求。
计算机化触摸屏为工艺配方编
程和存储提供了用户友好的界面。
该系统可以实现精确的侧壁轮
廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。
凭借其圆滑、紧凑的设计,
RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
 
应用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的
腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。




 

 

 

 

 

 

 

主要功能和优点:
1、加工至?220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)。
2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。
3、自动压力控制,允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制,便于维护。
4、于Windows的用户界面,丰富的配方和内置的数据记录功能,是一个可靠和持久的系统,全球安装了400多个系统。
 
 
 
主要参数规格:
基板
220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)
负载
开放式
上下电极
?240 mm
射频功率
300瓦@13.56兆赫,自动匹配(500瓦为选项)
可切换射频供电电极(阳极/阴极模式)为选项
气体管道
内部2条MFC控制的气体管道(最多6条)
干泵(500升/分钟)
操作系统
触摸屏操作(可选择基于Windows的用户界面)、配方管理
端点检测
光学发射光谱(OES)作为一种选择
尺寸
500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

 

 
 
 
             
 
 
 



 


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