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超高真空電子束蒸鍍設備

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊，專精的服務，提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理，為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向，用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流，打消顧慮，彼此協作，為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念，以人為本的企業文化，我們始終為用戶提供專業的服務！

合作丨共贏，選擇我們，選擇未來！

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域 環保,化工,電子

超高真空電子束蒸鍍設備介紹

超高真空環境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對於科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環境下使用電子束蒸鍍，SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

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針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構，使用陶瓷培林旋轉，並在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性。

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超高真空電子束蒸鍍設備應用領域腔體

  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。

  • 腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。

  • 腔體的極限真空度約為10-10Torr。

配置和優點選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑可達8吋晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。

  • 自動鍍膜系統。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻（液態氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、等離子清潔...。

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