MSR-500Plus 磁控濺射鍍膜系統

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公司介紹 主營產品

深圳市錫成科學儀器有限公司自成立以來，一直秉承誠信經營的理念，充分考慮客戶的技術需求及資金預算，為廣大客戶推薦合適的產品及服務。

我們自研及代理的國內外多種儀器設備，已廣泛應用于材料、電子、新能源、建筑、環保及化工等領域，用戶涵蓋各類高校、研究所、企業實驗室和質檢部門等。在樣品制備、分析測試、材料及器件的性能表征等方面，深受用戶認可。

我們將一如既往，努力為客戶提供完善的實驗室一站式服務。

展開

臺階儀，光學輪廓儀，電化學工作站，納米壓痕儀，力電聯測材料試驗機，介電溫譜測量系統，電阻測試儀，原子力顯微鏡，光學顯微鏡

產地類別	國產	應用領域	綜合

磁控濺射鍍膜系統

MSR-500Plus

可用于制備金屬膜、半導體膜、陶瓷膜、介質膜。在金屬或非金屬表面通過直流濺射Au、Ag、Cr、Al、Ti、Mg等金屬，射頻濺射TiO2、ZnO、Al2O3等介質薄膜，既可進行單質金屬濺射也可進行反應濺射和共濺射。

系統設計

MSR-500Plus大型磁控濺射鍍膜系統由濺射室、磁控濺射靶、DC電源、RF電源、脈沖偏壓電源、基片載臺、溫控系統、真空系統、氣路系統、PLC控制系統等組成，機柜一體式設計，可集成手套箱。此外，我們也提供小型桌面式系統，經濟適用，節省用戶空間。

技術參數

濺射室	立式前開門設計，帶觀察窗。尺寸可定制，SUS304不銹鋼。
真空系統	v 分子泵+旋片泵+高真空閥+數顯復合真空計 v 極限真空：5×10^-5Pa（真空系統選配，本參數只做參考） v 系統漏率：5×10^-9Pa.m³/s v 真空恢復：常壓至5×10^-4 Pa，小于30分鐘
基片載臺	轉速0-50rpm，負偏壓設計
樣品加載	手動或Loadlock加載
溫度	500℃±1℃，PID控溫，加熱帶屏蔽
濺射源	v 靶材尺寸：4’’/6’’/8’’，角度可調，配氣動擋板 v 濺射方向：向上或向下濺射 v DC：1000W，RF：300/500/600W v 靶距調整：80~120mm
工作氣路	2-4路MFC，可混氣，可充入Ar、O2、N2等，氣體流量100/50/20 SCCM。
鍍膜均勻性	±5%