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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機> VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

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VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業實驗室,配備了優秀的專業技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環境,而且還可得到專業人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

我們擁有同類型中優質性價比的產品!                 

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歡迎來到沈陽科晶,我們是國內實驗室樣品制備設備領域的專家!

 

 

 

 

 

 

 

 

切割機,金剛石線切割機,研磨拋光機,提拉涂膜機,旋轉涂膜機,真空鍍膜機,管式爐,箱式爐,電池實驗研究設備,清洗機

產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 冶金,綜合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置三個靶槍,兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。

產品名稱

VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀

產品型號
VTC-600-3HD-1000
主要參數

1、輸入電源:220V/50Hz 
2、濺射靶數量:3
3、腔體內徑:?300mm
4、靶槍冷卻方式:水冷 
5、極限真空度:7.4E-5pa 
6、真空室規格:Φ300×330 mm 
7、真空系統:VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 
8、恢復真空:系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統短時間暴露大氣) 
9、充氣系統:2路質量流量計(1路氬氣100scc、1路氬氣200scc)特殊氣體可定制 
10、濺射靶規格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同) 
11、樣品臺:Φ70mm//可加熱(室溫~1000℃) 

產品規格


主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm




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