產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 冶金,綜合 |
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置三個靶槍,兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
產品名稱 | VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀 | |
產品型號 | VTC-600-3HD-1000 | |
主要參數 | 1、輸入電源:220V/50Hz | |
產品規格 | 主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm |