透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2-EFEM
參考價 | ¥ 1000000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 北京伊微視科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 其他
- 更新時間 2024/3/19 14:42:51
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簡介:
透明晶圓缺陷掃描LuminaAT2-EFEM可以在2分鐘內完成300毫米晶圓的掃描,對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半導體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有的優勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。
樣品300 x 300 mm。
廠商簡介
Lumina Instruments,總部位于美國加利福尼亞州圣何塞,公司創始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測創新了更快速準確的方法,因此創建了革命性的儀器品牌lumina.
技術創新
將樣片放入系統中,3~5分鐘即可完成掃描。
收集的數據將被分析,圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。
感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡(SEM)、橢偏儀、顯微鏡等上進行進一步分析。
將樣品放入系統
直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線運動,反射光和散射光由四個探測器捕獲。
四通道檢測
AT2-EFEM有四個檢測通道。它們同時運行以生成四個獨立的圖像。每個通道有助于檢測和分類某些缺陷。
極化:薄膜缺陷、污漬
反射率:劃痕、內應力*、玻璃內的條紋*
坡度:劃痕、凹坑、凸起、表面形貌
暗場:納米顆粒、包裹體
透明晶圓缺陷掃描Lumina AT2-EFEM:采取的樣品尺寸為300mm;光斑的大小在60μm也可以選擇30或10μm;靈敏度在300nm理想;掃描時間在40/50/120s。
AT2應用案例:
l 內部缺陷:在融化階段,玻璃內含有污染物
l 內應力:生產過程中玻璃內部形成的張力或折射率內部變化。
l 污漬:由于薄膜殘留或清洗過程導致表面變色。