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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>有掩模光刻机>GK100 桌面微型紫外光刻机

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GK100 桌面微型紫外光刻机

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 迈可诺技术有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 GK100
  • 产地
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2024/6/13 11:14:22
  • 访问次数 374
产品标签

光刻机光刻

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半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

 桌面微型紫外光刻机

  1. 产品介绍
    桌面微型紫外光刻机,专为微米级图案制作而设计,旨在保障图形转移精度。设备采用紫外LED冷光源,结合双非球面石英透镜,可生成半角<2°的平行光,相较传统接触式曝光机,其紧凑的体积将移形换影置于桌面之上,为操作提供了便利与精准。
    该光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐,桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力,助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。

  2. 技术参数

    曝光光源:紫外LED;

        光源波长:365nm;

        曝光面积:4英寸、6英寸可选;

        曝光方式:单面接触式定时曝光;

        曝光分辨率:2um;

        曝光强度:30~120mW/cm2可调;

        曝光不均匀性:<5%;

        光源平行性:≤2°

        光源寿命:>20000h;

        电源输入:AC220V+10V,50HZ

    

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