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RIE-400iP 等离子体(ICP)刻蚀设备

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述

RIE-400iP是用于?4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统,可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式,可产生均匀、高密度的等离子体。另外,可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。

2. 设备用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。

3. 设备特点

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"可高效稳定地应用高射频功率(2千瓦以上),并实现良好的均匀性。大流量排气系统排气系统直接连接到反应室,可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中,便于更换


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