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CIS-LIBS顆粒元素分析系統

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西努光學創建于2003 年,主營工業顯微鏡及制樣設備、鏡片測定設備,高速攝像系統、工業內窺鏡、機器視覺等工業及科研應用的檢測設備及系統集成。
西努光學秉承“以光學為核心,為客戶提供解決方案”的經驗思路,經過16年的努力,成為眾多企業、高校科研單位提供各種專業化的光學系統解決方案。并于2012 年導入SAP 管理系統,通過系統資源整合,為客戶提供更優質、快捷的專業化服務。
2016 年,我們積極引進檢測設備的同時導入制樣等配套設備以豐富我們實驗室平臺,以更好的為客戶提供現場體驗,從微米到納米滿足客戶從制樣到結果分析的一站式體驗服務。



奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業內窺鏡,iX高速攝像機,標樂金相制樣設備,威爾遜硬度計,navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學設備

應用領域 綜合


CIS-LIBS顆粒元素分析系統:快速、精確、一鍵分析

CIS-LIBS顆粒元素分析系統

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CIS-LIBS顆粒元素分析系統

需要多臺設備配套:

僅憑放大觀察并不能查明成分

需要使用多臺設備或委托外部分析


需要進行預處理:

對進入分析設備內的尺寸有限制,需要破壞或切斷目標物

需要進行目標物表面的導電性處理、分析設備內部的真空處理


對實驗員素養要求高:

由于分析設備具有高專業性,只有少數人會操作


只有具備專業知識,才能根據檢測到的元素判斷物質

CIS-LIBS顆粒元素分析系統



只需一臺即可完成

只需一臺即可快速執行從放大觀察到元素判別   要進行元素判別的人員可當場進行作業


無需預處理

對目標物尺寸沒有限制,無需破壞也可直接分析

在空氣中進行分析,無需進行導電性處理及真空處理


輕松進行元素判別

使用顯微系統觀察的同時,一鍵點擊即可進行元素判別   根據內部數據庫,瞬時推測檢測物質


CIS-LIBS顆粒元素分析系統

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CIS-LIBS顆粒元素分析系統規格參數


型號

CIS- LIBS






LIBS光學模塊

檢測原理

激光誘導擊穿光譜法

檢測性質

定性及半定量

檢測能力

%水平 (取決于元素)

檢測環境要求

無, 分析在大氣條件下進行 (無, 常溫常壓條件下進行)

對應元素

CU、A

SUS、 Fe、 L

C、cr 、Mg、Mn  N

T

Y、zn 、Au等常見元素



激光

激光類型

Nd :YAG (半導體泵浦)

激光波長

355nm

單脈沖能量

<100UJ

脈沖寬度

≤1 . 5ns

點規格

15um  (typ)

燒蝕深度

1 - 10um (取決于材料



光譜儀

光譜范圍

200至780nm

光譜分辨率

0 . 15nm

信噪比

500


探測器

CMOS探測器


激光鏡頭

鏡頭類型

專屬規格透射型鏡頭

鏡頭倍數

7X

工作距離

18mm






掃描光學模塊


入射光軸

相差觀察方法

奧林巴斯BX53M ,  BF明場照明

物鏡

5X, 10X,20X,50X

可選


照明

大功率數字LED, 軟件可控, 帶記憶模式

偏光系統

偏光00與偏光90o 自動數字切換, 帶記憶模式


數字成像

相機型號

DFK33UX249

相機分辨率

1920x1200  (2 . 3mp)

相機靶面


2英寸

幀速

48FPS


掃描載物臺

載物臺方向

XYZ三軸

行程范圍

Xy軸125x75mm, z軸35mm

分辨率

0 . 1um(軟件控制)

精度

<5μm

控制方式

軟件自動控制+遙桿細分控制


生成報告

生成方式

自動生成

報告內容

單顆粒材質專業報告

全顆粒材質專業報告

電腦

15處理器, 16G內存, 硬盤1TB,顯示器22寸

設備電源

供電方式

AC 220V50Hz

保修期

整機12個月

耐環境性

使用環境溫度

+10至45

使用環境濕度

。至85%RH (無冷凝)

重量

系統

約50KG

外形尺寸

寬度490mm x高度600mm x縱深840mm


CIS-LIBS顆粒元素分析系統

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