日本原装TAISEI大成技研 气态除粉设备

日本原装TAISEI大成技研 气态除粉设备

大成技研株式会社提供的“气体粉末去除装置”主要去除半导体、液晶制造设备（离子注入、CVD、蚀刻等）中排出的气体反应生成物（微细粉末）。
特别是，通过旋转涡流吸附和高性能磁性元件，可以排除离子注入和CVD设备中产生的1μm以下的反应产物。该装置在元件内几乎没有压力损失，可用于真空泵的前级和后级，是一种创新的粉末捕集器，可以轻松处理现有过滤器无法去除的细粉末。它有望显着减少维护工时并提高生产率。

TRAPACK是一种粉末去除捕集器，可去除半导体和液晶制造设备废气中的反应产物（细粉）。结构有涡流旋流吸附型、磁性元件型（Trapac Element）以及两者结合的组合型三种。特别是，组合型排除了蚀刻设备和CVD设备发出的亚微米细粉。

清洁废气管道  减少前线阀门的维护  真空泵故障预防     提高生产力  减少前线维护

 外观结构   特征

去除细小反应产物（细粉）

单元密度低，网格空隙大

粉末分层在元件的表面和内部。

  主要用途   规格

  注入     ?一次元件/Trapac元件

  蚀刻     ?次要元素/无

         安装位置/真空、排气

  TU-KN100

（元件型）  主要用途：通用

元件类型：DL

端口尺寸：NW25

尺寸：D90mm x H195mm

重量：1.9kg

 TU-KN200

（元件型）  主要用途：通用

元件类型：EL

端口尺寸：NW40

尺寸：D140mm x H210mm

重量：4.6kg

 TU-KN500

（元件型）  主要用途：通用

元件类型：GL

端口尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H260mm

重量：10kg

 TU-KN500W

（元件型）  主要用途：通用

元件类型：HL

接管尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H390mm

重量：13kg

 TU-200

（元件型）  主要用途：

植入 元件类型：EL

连接尺寸：NW25

尺寸：D210mm x H210mm

重量：5.3kg

 TU-250

（元件型）  主要用途：

植入 元件类型：FL

连接尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H295mm

重量：6.5kg

 TU-500

（元件型）  主要应用：厂内/蚀刻

元件类型：GL

连接直径：NW40

尺寸：D300mm x H267mm

重量：10.0kg

 TU-500W

（元件型）  主要应用：植入/蚀刻

元件类型：HL

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：D300mm x H415mm

重量：13kg

 TU-1000

（元件型）  主要应用：就位/蚀刻

元件类型：GL

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：D300mm x H555mm

重量：16.5kg

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 TRAPPACK（Uzu型）

这是一种气体除粉装置，是 Trapac 的进一步发展，配备了漩涡型元件。

 外观结构   特征

由于螺旋结构，粉末不会长时间经历压力损失

几乎所有粉末都被涡流数和涡流螺距的组合拒之门外。

粉末分层在安装的涡流元件的表面上。

 ?主要用途 / CVD、蚀刻 ?一次元件 / 涡流元件

?二次元件 / 无 ?安装位置 / 真空、排气

 TU-50LM /LMJ

(涡流型)  主要用途：蚀刻/CVD

元件类型：ASD-50 涡流

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□370mm x H707mm

重量：53kg / 68kg

 TU-65LM /LMJ

(涡流型)  主要用途：蚀刻/CVD

元件类型：ASD-65 涡流

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□400mm x H1013mm

重量：94kg / 99kg

 TU-85LM /LMJ

(涡流型)  主要用途：蚀刻/CVD

元件类型：ASD-85 涡流

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□430mm x H1064mm

重量：100kg / 115kg

 TU-95LM /LMJ

(涡流型)  主要用途：蚀刻/CVD

元件类型：ASD-95 涡流

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□485mm x H1064mm

重量：145kg / 160kg

 TU-105LM /LMJ

(涡流型)  主要用途：蚀刻/CVD

元件类型：ASD-105 涡流

连接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□535mm x H1264mm

重量：180kg / 240kg

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 TRAPPACK（组合型）

TRAPACK的进一步进化，配备组合型元件（涡流型+元件型）的气态除粉装置。

 外观结构   特征

去除细小反应产物（细粉）

单元密度低，网格空隙大

粉末在螺旋和元件部分分层。

 ?主要用途 / CVD、蚀刻 ?一次元件 / 涡流元件

?二次元件 / Trapak 元件 ?安装位