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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法腐蚀/刻蚀设备>PlasmaPro 800 RIE 反应性离子刻蚀系统RIE

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PlasmaPro 800 RIE 反应性离子刻蚀系统RIE

具体成交价以合同协议为准

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1.产品概述:

 asmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。

2.产品特点

PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。

3.产品工艺

高性能工艺

准确的衬底温度控制

准确的工艺控制

成熟的300mm单晶圆失效分析工艺

大型下电 - 低成本

刻蚀终点监测 - 可靠性和可维护性俱佳

通过激光干涉仪与/或发射光谱进行终点监测 - 增强刻蚀控制

可选择带有4-、8-或12-条气路的气柜 - 可提供灵活的工艺和工艺气体,可以与主机分离,放置在远端服务区

近距离耦合涡轮泵 - 提供优秀的泵送速度加快气体的流动速度

数据记录 - 追溯腔室的历史状态以及工艺条件

液体冷却和/或电加热电 - 出色的电温度控制和稳定性



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