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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>掩模版和中间掩模版制造设备>掩模光刻胶处理及清洗设备>MaskTrack Pro 掩膜版清洗系统

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MaskTrack Pro 掩膜版清洗系统

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SUSS掩膜版清洗

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1.产品概述:

掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自动处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术大限度地提高光掩模性能。

2.产品优势

MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群,并提供一个方法,在全控、高洁环境中存储、处理和加工光掩模。模块化设计确保其具有高度的灵活性并能高度适应客户的要求。MaskTrack Pro 在次运行就能提供佳的清洁效果

3.产品工艺

物理清洗

该系统为湿法清洗提供多种物理力技术,包括高可达3个的预清洗与终清洗腔室,用于剥离隔离、预清洗和终清洗工艺。

原位紫外表面处理与清洗技术

频率高达4 MHz的高频双兆声波清洗

精密的纳米二元喷雾

聚焦点清洗

化学清洗

DIW-H20脱气,用于控制兆声波工艺中的空化控制

超洁净的冷/热CO2-DI水

臭氧DI水和pH值稳定的电解H2

超稀释的SC1

用于进一步减少图案损伤的碱基新介质

15 nm工艺介质过滤间








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