1.产品概述：

SUSS MicroTecs ASx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工艺。

2.产品工艺：

晶圆尺寸：4、6、8英寸

小片的用工具

符合 SEMI S2、S8、S13

CE认证

符合欧洲标准和机械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低电压指令 2006/95/EC

DIN ISO 14.644 2

SECS/GEM 200/300 mm 工厂自动化标准接口

3.产品优势：

采用A+喷嘴在整个掩模上连续涂布介质，使显影的冲击力小化。

显影剂主动脱气，可防止微气泡的产生，实现低的缺陷计数。

将PEB升为含APB的集群设备

高效的化学过滤（胺/酸）和精确的温、湿度控制

含SMIF装/卸载的全自动化

增强的工艺控制与监测功能

与曝光后烘烤系统APB9500结合，获得佳效果