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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>涂胶显影设备>DM200-SE 全封闭式桌面显影机

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DM200-SE 全封闭式桌面显影机

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显影

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1.产品概述
全封闭式桌面显影机是一种高效、精准的实验室设备,主要用于各种材料的显影处理。其全封闭式设计能够有效防止显影液挥发和污染,确保实验环境的清洁和安全。同时,桌面型设计使得设备占地面积小,便于移动和放置,适用于各种实验室环境。
2.产品特点

全封闭式设计:避免显影液挥发和雾气扩散到外部,保护环境,减少对人体健康的危害。
耐腐蚀材质:外壳喷塑处理,耐腐蚀、易清洗;内腔采用不锈钢材质,镜面抛光处理,光滑、耐腐蚀、易清洗。
内置真空过滤器:防止液体吸入真空泵,?;ど璞该馐芩鸹?。
可调真空压力:真空压力可调,压力值实时显示,满足不同实验需求。
可调液体流量:液体流量可调,回吸可调,确保显影过程的精确控制。
广泛适用性:适用于多种尺寸的wafer,从碎片到200mm(8”圆晶)均可处理。
高精度控制:转速分辨率高,旋涂速度和加速度可调,工艺时间设定精确。
3.应用域

全封闭式桌面显影机广泛应用于高封装、MEMS(微机电系统)、LED(发光二管)等市场域。此外,它还可用于医疗卫生、化工、能源、电子等多个行业的实验室中,进行各种材料的显影处理。
4.产品参数

产品型号:DM200-SE
品牌:LEBO/雷博
产地:中国(江苏江阴)
材质:外壳喷塑,内腔不锈钢
尺寸:550mm (W) x 600mm (D) x 405mm (H)
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圆晶)
转速分辨率:±1 RPM
旋涂速度:20-3000rpm(空载)
旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空载)
工艺时间设定:0-3,000sec/step,时间设置精度:0.1sec




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