1.产品概述：

Beneq P800 门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 P800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

2.产品配置:

大型零件需要大型原子层沉积工具。 Beneq P800 通常用于直径大于 600mm 的批量零件。大批量生产能力还可以降低较小零件的成本，使原子层沉积在许多应用域中具有商业可行性。根据每个客户的基材和应用选择和设计佳的工具设置和 ALD 工艺。P800 的设计使得在反应室和底物支架的不同设置之间切换变得容易。这种内置的多功能性意味着您可以使用相同的原子层沉积系统从研发顺利过渡到批量生产。Beneq 提供量身定制的应用开发以及试生产支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之进行测试。

用于厚膜堆叠 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。大批量的厚膜堆叠需要大量的驱体，并产生大量的残留物和副产物。我们设计的 P800 配备了高容量驱体源以及驱体灭活和过滤系统，以应对这些挑战。Beneq P800 是 35+ 年工业生产发展的结果，具有大批量 >1μm 厚膜堆栈。

3.产品优势：

维护更简单、频率更低。 沉积厚膜堆叠的原子层沉积工具通常需要每月清洁一次。P800 的高容量泵管路过滤器使该工具即使在大批量生产中也能运行数月而无需维护。此外，更换 ALD 反应室通常需要一整天的时间，因为您需要先让它们冷却下来。P800 设计允许用户简单地拉出反应室和其他需要清洁的部件，从而将时间缩短到几分钟。

避免因维护而造成不必要的停机时间。 Beneq P800 使用多个反应室，这些反应室在每次运行之间不断更换，因此您可以大限度地减少与维护相关的生产停机时间。

Beneq 有的预热器。 我们可选的预热烤箱缩短了加热时间，并进一步提高了您的吞吐量。