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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法清洗设备>GNP CEANER-412S CMP后清洗机

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GNP CEANER-412S CMP后清洗机

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半导体清洗湿法

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

适用晶圆尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:喷淋清洗、单边刷清洗、旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洁器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

电刷尺寸:070(外径)032(内径)170()毫米

刷隙调节:PLC自动控制(可选刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

化学:NH4OH ~ 1%

可用刷型:双面PVA

电刷转速:最高400rpm

旋转速度:手动加载与自动顺序,湿入/干出,最大2,000rpmDIW冲洗/ N2

2. 工艺流程

手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC




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