Super-SPECTROS™ 200 有機薄膜沉積和金屬化系統
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 KURT.J.LESKER
- 型號 Super-SPECTROS™ 200
- 產地 美國
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/9/6 10:53:08
- 訪問次數 191
聯系方式:謝澤雨 查看聯系方式
聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!
1. 產品概述:
Super-SPECTROS™ 200 是一套先進的有機薄膜沉積和金屬化系統,針對有機材料沉積進行了優化。它能夠實現精確的薄膜沉積控制,可沉積多種材料,如氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、非晶硅等硅基薄膜,以及各種金屬薄膜,在半導體、光電等領域有廣泛應用 。
2. 設備應用:
· 半導體領域:用于半導體芯片制造過程中的薄膜沉積,如制作晶體管的柵極絕緣層、金屬互連層等,對提高芯片性能和集成度至關重要。例如在先進的邏輯芯片制造中,精確沉積的絕緣薄膜可確保晶體管之間的電隔離,金屬薄膜則用于實現芯片內的電路連接。
· 光電領域:在有機發光二極管(OLED)制造中,可沉積有機發光材料和電極材料等,對于實現高質量的發光顯示效果意義重大。比如在 OLED 屏幕生產中,通過該系統精確控制有機薄膜的沉積,能保證發光層的均勻性和穩定性,提升顯示品質。
· 科研領域:為高校和科研機構的材料研究、新型器件研發等提供了強大的實驗手段,助力科研人員探索新的材料體系和器件結構,推動相關領域的技術創新和發展。
3. 設備特點:
· 多源配置靈活:多達 12 個 LTE 信號源,并且有 1cc、10cc 或 35cc 等不同容量可供選擇,還配備多達 4 個熱蒸發源,可滿足多種材料和復雜結構的沉積需求,能實現對不同材料的精確控制沉積,為制備多功能、高性能的薄膜器件提供了基礎 1。
· 精確的沉積控制:具有自動基板、掩膜存儲和更換功能,以及基板快門,可確保在沉積過程中對基板的精準操作和保護,實現高質量、均勻性良好的薄膜沉積。例如在制備高精度的光學薄膜時,能保證薄膜厚度和光學性能的一致性 1。
· 工藝參數監控與調節:通過高溫計端口實時監測沉積過程中的溫度等參數,結合 KJLCEKLIPSE™控制軟件,實現基于配方的基于 PC 的系統控制,且速率控制分辨率可達 0.05 ?/s,能夠精確控制薄膜的生長速率和厚度等參數,滿足不同應用場景對薄膜性能的嚴格要求 1。
· 高效的真空系統:采用低溫泵高真空泵和 2 位閘閥,確保系統具有高真空度環境,有效減少雜質和氣體對沉積過程的影響,提高薄膜的質量和純度。例如在制備對純度要求高的半導體薄膜時,高真空環境可保證薄膜的電學性能和穩定性 1。
· 創新的雙楔工具:KJC 雙楔工具可將單個基材轉換為多個基材,而無需打破真空或進行復雜的掩膜操作。這種方式減少了昂貴且長時間的研究時間,允許在幾天而不是幾個月內完成大量的基材變化。此外,結合基板的旋轉 / 取向操作,可實現多種材料和厚度的組合沉積,極大地拓展了系統的應用靈活性和功能性 1。
4. 產品參數:
· 晶圓尺寸:可支持多種規格晶圓,具體支持情況未詳細說明,但通常能夠滿足常見的半導體晶圓尺寸需求。
· 源的類型和數量:多達 12 個 LTE 信號源,有不同容量選擇;多達 4 個熱蒸發源。
· 沉積速率控制:速率控制分辨率為 0.05 ?/s 。
· 真空系統:配備低溫泵高真空泵,確保高真空度環境;采用 2 位閘閥 。
· 溫度監測與控制:具有高溫計端口,可實時監測溫度,但具體的溫度控制范圍未給出。
· 軟件控制系統:采用 KJLCEKLIPSE™控制軟件,基于配方的基于 PC 的系統控制,方便用戶進行參數設置和工藝管理。
· 雙楔工具特性:可實現單個基材到多個基材的轉換,且能與基板旋轉 / 取向結合,實現多種復雜的沉積組合,但關于具體的尺寸、角度等參數未詳細說明。
· 實際參數可能會因設備的具體配置和定制需求而有所不同。