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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>硅片制备/晶体生长设备>单晶炉>SR110 区熔法硅芯炉

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SR110 区熔法硅芯炉

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

改良后的硅芯炉设计采用两个直径约为50毫米的源杆,并可以从每个源杆上拉出硅芯。

产品数据概览:

材料:硅

细杆

长度: 最长3200毫米

直径: 大约8毫米

源杆

长度: 最长 1,000 mm

直径: 100 mm (4")

极限真空度: 5 x 10-2 mbar

最大过压: 0.35 bar(g)

发电机

输出电压: 30 kW

频率: 2.8 MHz

上拉式进料

拉动速度: 最高60毫米/分钟

下拉式进料

拉动速度: 最高 10 mm/min

转速: 高达 20 rpm

尺寸规格

高度: 7,300 mm

宽度: 1,820 mm

深度: 1,250 mm

占地面积(总计): 2,500 mm x 2,800 mm

重量(总计): 6,000 kg

区熔(FZ)技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性,该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入,这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此,几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量(无坩埚工艺),FZ晶体同样也适用于光伏行业。

区熔(FZ)技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比,FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化,无需使用石英坩埚(每炉次耗用一个),可实现高拉速,因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外,无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体,可以通过多次处理,显著地提高纯度。





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