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气相沉积光刻机刻蚀机磁控溅射

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北京瑞科中仪科技有限公司一家是专门从事数码光学显微镜及相关实验室设备研发与销售的新型高科技公司,也专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的材料分析解决方案,北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器,以专业能力导向,精细工艺流程,用科学手段解决科研中遇到的难题.彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

公司主要产品包括:生物显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、体视显微镜、数码显微镜、显微镜数码相机照相接口、显微镜*冷光源、数码图像分析系统、测量显微镜、三座标测量显微镜,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机

公司经销代理品牌包括:蔡司显微镜,奥林巴斯显微镜,尼康显微镜,徕卡显微镜,国产各厂家显微镜, 华粤行 ,基恩士 , 日本电,日立 ,布鲁克,三和联, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(铂金埃尔默)全系产品 ,天美爱丁堡,原子光谱,气相色谱,PE(铂金埃尔默)全系产品

代理经销的产品种类包括,荧光显微镜,荧光显微成像系统,激光捕获显微切割,全自动切片扫描,三维超景深显微系统,动物超声系统,3D超景深显微镜,形貌探测显微镜,蔡司共聚焦显微镜,全自动数字切片扫描,病理切片扫描,激光切割显微系统,立体显微镜,国产激光共聚焦显微镜,精准医学显微切割,激光显微切割系统,按需搭建显微系统,荧光光谱仪,激光细胞显微操作 拉曼显微镜光学仪器及设备/光学显微镜/荧光显微镜光学仪器及设备/电子显微镜/其它电子显微镜半导体行业专用仪器/其它半导体行业仪器设备其它半导体设备生命科学仪器/分子生物学仪器/PCR仪生命科学仪器/分子生物学仪器/基因测序仪生命科学仪器/分子生物学仪器/DNA合成仪半导体行业专用仪器/薄膜生长设备/其它薄膜沉积设备半导体行业专用仪器/光刻及涂胶显影设备/无掩模光刻机/直写光刻机


公司成立伊始,即本着“以人为本,诚信发展,合作共赢"的企业宗旨,快乐中结识新朋友,稳步中追求新发展。目前公司已经拥有一支由专业技术人员、营销人员和维修人员组成的强大队伍,竭诚为广大客户提供包括技术咨询、产品配套、安装调试、应用指导、维护保养在内的整套细致入微的服务。同时公司还依托中国地质研究院、清华大学、中国农业大学、中科院等科研院所的强大技术实力,特聘多名教授、博士作为我公司提供多方面的技术支持。

公司储备各显微镜现货,只要您有需求,我们就能随时为您提供各种产品选配服务。公司管理层、营销队伍和技术人员都具备多年的专业技术经验,相信我们的质量和服务一定是显微光学领域中无法可比的。

北京瑞科中仪科技有限公司秉承“专业的人员,过硬的技术,优秀的产品"精神,为您提供专业、及时、周到的技术服务,北京瑞科中仪科技有限公司必将成为您值得信赖的伙伴!












显微镜,激光共聚焦,电镜,x射线,激光捕获显微切割,荧光成像系统,DNA/RNA合成仪,半导体行业仪器设备,生命科学仪器,光刻机,

价格区间 100万-200万 应用领域 环保,生物产业,石油,制药,综合

气相沉积光刻机刻蚀机磁控溅射介绍:

工艺灵活性

PECVD沉积设备SI 500 PPD便于在从室温到350℃的温度范围内进行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的标准的化学气相沉积工艺。

预真空室

SI 500 PPD化学气相沉积系统的特色是预真空室和干泵装置,用于无油、高产量和洁净的化学气相沉积过程。

SENTECH控制软件

强大的用户界面友好软件包括模拟图形用户界面,参数窗口,工艺处方编辑窗口,数据记录和用户管理。

SI 500 PPD代表了的等离子体增强化学气相沉积设备,用于介质膜、非晶硅、碳化硅和其他材料的沉积。它基于平板电容耦合等离子体源,预真空室,温控衬底电极,可选的低频射频源、全自动控制的无油真空系统、的SENTECH控制软件,采用远程现场总线技术,以及用户友好的通用界面来操作SI 500 PPD。

SI 500 PPD等离子沉积设备,可以加工从大到200毫米直径的晶片到装载在载片器上的零件。单晶片预真空室保证稳定的工艺条件,并实现简易切换的过程。

SI 500 PPD等离子增强沉积设备用于在从室温到350℃的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通过液态或气态前驱体,SI 500 PPD可以为TEOS, SiC和其它材料的沉积提供解决方案。SI 500 PPD特别适用于化学气相沉积用于刻蚀掩膜,钝化膜,波导及其他的介质膜和非晶硅。

SENTECH提供不同级别的自动化程度,从真空片盒载片到一个工艺腔室或至多六个工艺模块端口,可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统,目标是高灵活性或高产量。SI 500 PPD也可用作多腔沉积系统中的一个工艺模块。

气相沉积光刻机刻蚀机磁控溅射图片介绍:

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