| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,電子,交通,航天,綜合 |
貴金屬薄膜專用鍍膜設備
一、設備簡介：
貴金屬薄膜專用鍍膜設備采用雙腔室結構設計，工藝腔+裝/卸載腔，是工藝可靠性與制程效率的良好融合。設備配備一套高能離子東清洗源(lonbeam Cleaning Source)，多套磁控濺射源(Magnetron Sputtering Source)，配合可靠的伺服電磁推進系統，設備模塊化程度高、穩定性好操作簡單且維護方便。
二、設備參數：
三、設備主要特點和技術優勢：
1、 模塊化通用接口，直接兼容不同形式陰極靶材，允許直流脈沖、中頻、射頻工作模式、兼容性強；
2、 特殊設計的磁場及工藝氣路，有效提升靶材利用率以及長期工藝穩定性;
3、 雙腔室結構設計，既保障了工藝過程的穩定性與一致性，又極大縮短了鍍膜前處理時間，提高生產效率；
4、自主設計的全自動智能化工藝操作系統，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調用能力，配備實時工藝參數監控系統，允許在線遠程控制。
四、膜層系列：
五、主要應用：
· 可鍍 Au、Ag、lr、Re、Pt、Ta、Ti、Cu、Cr、Ni等金屬及其化合物;
· 可用于電子元器件、太陽能電池、光學模具等各個領域。
注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室
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