半導體設備日本理學Rigaku射熒光射線分析儀

半導體設備日本理學Rigaku射熒光射線分析儀

高強度/高靈敏度測量

這是一款采用全內反射熒光X射線分析的樣品表面微量元素。配備高輸出水冷X射線管和大面積SDD探測器，即使是臺式設備，也能實現普通熒光X射線分析無法獲得的高靈敏度分析。

通過添加內標元素、滴加、干燥，可以輕松分析飲用水或環境水中的ppb級痕量成分。

它適用于高基質樣品的篩選分析，因為 ICP 分析存在的記憶效應和設備污染風險較小。此外，通過掃描入射X射線角度，可以在深度方向上分析樣品表面上的沉積物和薄膜。

NANOHUNTER II 概述

高強度/高靈敏度測量

使用 600W 高功率 X 射線源、反射鏡和大面積 SDD 可以進行高靈敏度測量。我們已實現有害元素 As、Se 和 Cd 的 ppb 級檢測限。

可選擇多種激發條件

在標準激發條件（Mo靶）下，可有效激發As、Pb等有害元素。
雙結構多層膜允許使用高能激發條件（約30 keV），從而可以使用光譜相互重疊的Cd、Ag等的K線區域作為測量線。

可變入射角機構實現角度分辨測量

通過使用任意改變入射角的機制，現在不僅可以獲得表面附近的元素信息，還可以獲得深度方向的元素信息。

用于薄膜深度分析的 GI-XRF

在固體表面分析領域，需要比表面略深入的分析（主要是薄膜和厚膜領域）。 對于這種類型的分析，采用一種稱為掠入射射線熒光 (GI -XRF) 的方法，通過改變 X 射線源的入射角來激發地下元素。 NANOHUNTER II TXRF 光譜儀的可變入射角可以對深度剖面進行表面分析。 GI -XRF技術適用于納米級研究。

NANOHUNTER II 規格