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高級自動光譜橢偏儀是自動變角橢偏儀,能夠自動改變測角計入射角的spectroscopic ellipsometer,角度改變步進高達0.01度，光譜范圍覆蓋250-1700nm, 是寬波段高精度自動橢偏儀。
高級自動光譜橢偏儀典型應用領域
半導體行業（PR、氧化物、氮化物等）
液晶顯示器（ITO、PR、Cell gap……）
光學薄膜涂層、TiO2、SiO2、Ta2O5
半導體化合物
MEMS/MOEMS中的功能膜
非晶硅、納米硅和晶體硅
光伏薄膜、CdTe、CdS、CIGS、AZO、CZTS

高級自動光譜橢偏儀光譜范圍覆蓋從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜厚度，比如硅晶圓的薄膜厚度，典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術。
與反射計或反射光譜技術不同的是，光譜橢偏儀參數Psi 和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變入射角大小，可獲得許多組數據，這樣就非常有助于*化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動調節，一種是自動調節入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。

高級自動光譜橢偏儀特色
易于安裝，拆卸和維護
**的光學設計
自動改變入射角，入射角分辨率高達0.01度
高功率250-1100nm光源適合多種應用
采用陣列探測器確保高速測量
測量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于實或在線監測薄膜厚度和折射率
具有齊全的光學常數數據庫
提供工程師模式，服務模式和用戶模式三種使用模式
靈活的工程師模式用于各種安裝設置和光學模型測量
一鍵快速測量
全自動標定和初始化
精密樣品準直界面直接樣品準直，不需要額外光學
精密高度和傾斜調整
適合不同材料和不同后的樣品襯底基片
2D和3D數據顯示輸出
高級自動光譜橢偏儀參數
波長范圍：250-1700nm 
波長分辨率：1nm （深紫外）， ~3nm （可見光）， ~6nm (近紅外）
測量點大小：1-5mm可調
入射角：20-90度可調
入射角分辨率：0.01度
可測樣品大小：100x100mm
可測樣品厚度：高達10mm 
測量薄膜厚度：0nm ---30um
測量時間：~1s/點
精度：~0.25%
重復精度：<1A



高級自動光譜橢偏儀可選配件
反射或透射光度測量配件
微點測量小面積
X-Y位移臺用于厚度繪圖
加熱臺/制冷臺用于薄膜動力學研究
垂直樣品安裝測角計
波長拓寬到IR范圍
掃描單色儀配置