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產品介紹
直流濺射等離子實驗裝置 型號:ZH5502 | 貨號:ZH5502 |
產品簡介 裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統、測量系統、進氣系統等部分組成。 本實驗采用同軸二濺射結構,在真空室內以沉積材料為陰,加工樣品為陽,工作期間兩間加直流電壓引起放電,放電氣體中的離子被加速轟擊靶面,濺射粒子沉積在燒結車掃描測溫云臺基片表面成膜。 可以完成光學薄膜材料的制備及其光學特性的測量、金屬薄膜的制備等實驗。通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理,掌握直流濺射薄膜材料的方法。 主要特點: 1 濺射靶臺和濺射靶距離可調節,研究在不同距離時對薄膜濺射的影響; 2 濺射基片可進行加熱,加熱溫度可控,研究基片溫度對薄膜濺射的影響; 3 濺射氣壓、濺射氣源流量可調節,研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響; 4 反應腔體采用石英玻璃管,可直觀地觀察到濺射現象; 5 工作氣體可調表面粗糙度樣板節換,并可多路氣體混合工作。 主要參數及性能: 1、濺射腔體外形尺寸:φ140mm×150mm; 2、濺射靶臺:φ70mm×20mm; 3、濺射靶臺和濺射靶可調距離:10~50mm; 4、基片加熱溫度可控范圍:室溫~80℃; 5、濺射氣壓可調范圍:10Pa~200Pa; 6、濺射電壓:0V~1000V連續可調; 7、濺射電流:0~200mA可測; 8、氣源流量可控范圍:6~60ml/min;25~250ml/min; 9、供電電源:AC220V,50HZ; 10、整機功率:1.5KW。 www.ghitest.com |