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臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD
基于多年大型薄膜制備系統的設計與研發所積累的豐富經驗，Moorfield Nanotechnology深入了解了劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院、巴斯大學、埃克塞大學、倫敦瑪麗大學等多所著名大學科研團隊的具體需求，經過不懈努力推出了臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD產品。該系列產品是為高水平學術研究研發的小型物理氣相沉積設備。推出之后短短幾年時間已經在歐洲銷售了數十臺，該系列產品包含了磁控濺射、金屬/機物熱蒸發系統。這些設備雖然體積小巧，但是性能越，能夠快速實現高質量納米薄膜、異質結的制備，通常在大型設備中才有的共濺射和反應濺射功能也可以在該系列產品上實現。準確的有機物沉積系統更是該系列的大色。便捷的操作、智能的控制、高效的制備效率讓您的學術研究進入快車道。
設備型號
臺式高質量多功能薄膜磁控濺射系統 - nanoPVD S10A
nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology傾力打造的款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統。該系統雖然體積小巧，但是功能出色、配置齊全。該型號的推出是為了解決傳統臺式設備功能簡單不能滿足前沿學術研究的問題。劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院等用戶都對這款臺式設備給予了很高的評價。
nanoPVD S10A多可安裝3個水冷式濺射源，可實現高功率持續運行，靶材尺寸與大型系統樣是行業通用尺寸。系統可以實現兩源共濺射方案，可以實現反應濺射方案，多可同時控制3路氣體。系統具有分子泵，可快速達到5*10-7mbar高真空。腔體取放樣品非常方便，樣品臺大尺寸4英寸，系統有智能化的觸屏控制系統，采用完備的安全設計方案。
nanoPVD S10A可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等。
| 主要點： ◎ 水冷式濺射源，通用2英寸設計 ◎ MFC流量計高精度控制過程氣體 ◎ DC/RF濺射電源可選 ◎ 全自動觸摸屏控制方案 ◎ 可設定、儲存多個濺射程序 ◎ 大4英寸基片 ◎ 本底真空<5*10-7mbar ◎ 系統維護簡單 ◎ 完備的安全性設計 ◎ 兼容超凈間 ◎ 性能穩定 選件： ◎ 機械泵類型可選 ◎ 樣品腔快速充氣 ◎ 自動高精度壓力控制 ◎ 添加過程氣體 ◎ 500℃襯底加熱 ◎ 襯底旋轉，Z向調節 ◎ 三源濺射系統 ◎ 共濺射方案 ◎ DC/RF濺射電源可選 ◎ 濺射電源自動切換系統 ◎ 晶振膜厚測量系統 典型配置方案： 金屬沉積：2個濺射靶，配DC電源與電源切換系統，襯底Z向調節與擋板系統，晶振膜厚測量系統。 緣材料沉積：2個濺射靶，配RF電源與電源切換系統，襯底加熱與氧氣通入氣路，襯底Z向調節與擋板系統，晶振膜厚測量系統。 反應/共濺射:三個濺射靶，配備DC/RF電源與自由切換系統，三路過程氣體（Ar、O2、N2）用于沉積氧化物或氮化物。 |
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臺式超大面積高質量薄膜磁控濺射系統 - nanoPVD S10A-WA
Moorfield Nanotechnology根據客戶超大樣品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面積高質量薄膜磁控濺射系統。該型號是nanoPVD-S10A的拓展型號，用于制備超大尺寸的樣品，大樣品可達8英寸。
該系統基于nanoPVD-S10A的成熟設計和越性能，在相同腔體的設計基礎上對nanoPVD-S10A進行了調整，使濺射源正對襯底。結合襯底旋轉，即使在生長8英寸的超大樣品時也可獲得很高的樣品均勻度。與nanoPVD-S10A樣，濺射源采用水冷式設計，可以持續高功率運行，可實現共濺射等功能。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的設備，如有殊需求請聯系我們進行詳細討論。
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| 主要點： ◎ 可制備8英寸超大樣品 ◎ 水冷式2英寸標準濺射源 ◎ MFC流量計高精度控制過程氣體 ◎ 直流/交流濺射電源可選 ◎ 全自動觸屏控制 ◎ 可設定、存儲多個生長程序 ◎ 本底真空<5×10-7mbar ◎ 易于維護 ◎ 全面安全性設計 ◎ 兼容超凈間 ◎ 系統性能穩定
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| 選件： ◎ 機械泵類型可選 ◎ 腔體快速充氣 ◎ 自動高分辨壓力控制 ◎ 增加過程氣體 ◎ 升至雙濺射源 ◎ DC/RF電源可選 ◎ 濺射電源切換 ◎ 共濺射方案 ◎ 晶振膜厚測量系統 |
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臺式高質量金屬\有機物熱蒸發系統 - nanoPVD T15A
nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型號，高腔體設計方案為熱蒸發而設計，確保薄膜均勻度，大可生長4英寸的薄膜樣品。近年時間在英國安裝就有十幾套，劍橋大學、巴斯大學、埃克塞大學、倫敦瑪麗大學等都是該設備的用戶。
系統可以配備低溫蒸發(LTE)和標準電阻蒸發源，分別用于沉積有機物和金屬薄膜。低熱容有機物蒸發源具有高精度的控制電源，可以準確的控制蒸發條件制備高質量的有機物薄膜。金屬源采用盒式屏蔽模式，可以有效的減少交叉污染等問題。智能的控制系統和靈活的配置方案使PVD-T15A非常適合應用于材料研究域。
nanoPVD T15A可用于制備高質量的金屬、有機物薄膜和異質結等材料。可應用于傳統材料科學和新型的OLED（有機發光二管）、OPV（有機光伏材料）和 OFET（有機場效應管）域。
| 主要點： ◎ 可選金屬、有機物蒸發源 ◎ 高縱橫比的腔體，增加樣品均勻性 ◎ 全自動觸屏控制系統 ◎ 可設定、儲存多個蒸發程序 ◎ 大4” 基片 ◎ 本底真空<5*10-7mbar ◎ 維護簡單 ◎ 完備的安全性設計 ◎ 性能穩定
選件： ◎ 機械泵類型可選 ◎ 樣品腔快速充氣 ◎ 自動高精度壓力控制 ◎ 多4個有機蒸發源 ◎ 多2個金屬蒸發源 ◎ 500℃襯底加熱 ◎ 襯底旋轉，Z向調節 ◎ 晶振測量系統
典型配置指標： 金屬沉積：雙金屬源與擋板和晶振系統 有機物沉積：四個低溫蒸發源與擋板和晶振系統。 金屬/有機物沉積：兩個金屬源，兩個有機源與擋板和晶振系統。 |
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發表文章
A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state density
Jin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2
作者報道了用用氧化鋅和PtOx肖基接觸界面制備高速肖基二管整流器的方法。為此，作者使用PE-ALD沉積ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系統通過射頻濺射制備金屬層和PtOx接觸層，包括反應濺射模式(通過含氧氣氛沉積Pt)。所制備的器件具有適用于噪聲敏感和高頻電子器件的性能。
用戶單位
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劍橋大學 |
帝國理工學院 |
埃克塞大學 |
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巴斯大學 |
諾森比亞大學 |
倫敦瑪麗大學 |
