意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀概述:
意大利哈納HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。
意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀特點:
* 基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優良操作簡單,可直接顯示測量結果。
* 人性化設計,具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀技術參數:
測量項目 | 技術參數描述 | ||||||||||
測量范圍 | 0 to 400 ppm (mg/L) SO2 | ||||||||||
解析度 | 1 ppm (mg/L) | ||||||||||
測量精度 | 讀數的5% | ||||||||||
測量方法 | 滴定法 | ||||||||||
測量原理 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||
樣品取樣量 | 50 mL | ||||||||||
氧化還原電極類型 | HI 3148B/50食品玻璃復合氧化還原電極,電極適用溫度范圍:20 to 40°C | ||||||||||
定量泵設置 | 流量設置為:0.5 mL/min | ||||||||||
磁力攪拌設置 | 攪拌速率設置為:1500 rpm | ||||||||||
適用環境 | 0 to 50°C(32 to 122°F);max 95% RH 無冷凝 | ||||||||||
電源模式 | AC230V/60 Hz;10VA | ||||||||||
尺寸重量 | 主機尺寸:208 x 214 x 163 mm 主機重量:2200 g | ||||||||||
pH值與游離二氧化硫轉換關系 | |||||||||||
相關項目 | pH值與游離二氧化硫轉換對應值 | ||||||||||
pH值 | 3.0pH | 3.1 pH | 3.2 pH | 3.3 pH | 3.4 pH | 3.5 pH | 3.6 pH | 3.7 pH | 3.8 pH | 3.9 pH | |
游離二氧化硫(ppm) | 14 | 18 | 22 | 28 | 35 | 44 | 55 | 69 | 87 | 109 |
HI84100二氧化硫滴定分析儀市場價格:
型號 | HI84100 |
市場價格 | 8800元 |
HI84100標準配置:
滴定分析儀主機、HI 3148B/50食品玻璃復合氧化還原電極、相關附件、攜帶箱、中英文使用手冊