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| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,航天,綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 |
極紫外 （EUV） 球面反射鏡
超拋光基片上的鉬/硅多層鍍膜
13.5nm 下可實(shí)現(xiàn)的大反射
設(shè)計(jì)用于 EUV 光束聚焦應(yīng)用
適用于 HHG 應(yīng)用的窄通帶
極紫外 （EUV） 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設(shè)計(jì)，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*，因?yàn)?EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄，約為 0.5nm，確保只會在高諧波生成 (HHG) 應(yīng)用中反射 13.5nm 的關(guān)注諧波。EUV 球面反射鏡的典型應(yīng)用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.
注意:
每個(gè)反射鏡均附運(yùn)行樣本的測試數(shù)據(jù).
極紫外 （EUV） 球面反射鏡產(chǎn)品信息
| DWL (nm) | Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂層 | 涂層規(guī)格 | 產(chǎn)品編碼 |
| 13.5 | 25.40 | 250.00 | Mo/Si Multilayer Layer: Silicon | Rabs>60% @ 13.5nm | #11-730 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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