產品簡介
產品簡介:
美國SVT公司的RF等離子源適用于多個公司多種型號。
法蘭接口包括: 2.75''、4.5''、6''。
等離子源用于離解雙原子氮、氧和氫。離解過程中不會產生高能離子。
產生的束流含有零離子,有助于生長高質量的薄膜,也可以在不損傷襯底表面的情況下清洗襯底。
高生長率等離子體源能夠在生長速率大于4
詳細介紹
產品簡介:
美國SVT公司的RF等離子源適用于多個公司多種型號。
法蘭接口包括: 2.75''、4.5''、6''。
等離子源用于離解雙原子氮、氧和氫。離解過程中不會產生高能離子。
產生的束流含有零離子,有助于生長高質量的薄膜,也可以在不損傷襯底表面的情況下清洗襯底。
高生長率等離子體源能夠在生長速率大于4μm/hr的情況下生長高質量的薄膜。
光闌和等離子腔形狀可以顧客定制,以滿足客戶對不同流量的需求。
軟件作為可選項,能夠實現自動操作,允許用戶保存數據,編寫工藝程序。
特點
可提供N2、O2、H2等離子源
生長速率大于4μm/hr
源設計有等離子體觀察窗口
光闌和等離子腔形狀可以客戶定制
RF自動調節可選
RF 功率 | 200-600W |
氣體流量 | 0.1-10SCCM |
法蘭 | 4.50’’ CF |
源直徑 | 2.35’’ |
水冷卻 | 0.17GPM 流量(0.227m3/hr) |
RF匹配網絡 | 手動調節(自動調節可選) |
等離子腔 | PBN,氧化鋁,石英 |