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那諾中國(guó)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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北京理工大學(xué)RIE-PECVD順利安裝驗(yàn)收

時(shí)間:2017-9-12閱讀:2763
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今年7月,北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗(yàn)收。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備,一套設(shè)備中實(shí)現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝,同時(shí)具備等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的工藝能力,既避免客戶擔(dān)心的交叉污染問(wèn)題,又為實(shí)驗(yàn)室節(jié)省了寶貴的空間和預(yù)算,是大學(xué)院校和科研機(jī)構(gòu)的熱門(mén)選擇。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達(dá)12” 直徑的基片上,可以通過(guò)不同配置實(shí)現(xiàn)高速沉積,或控制氮化物薄膜應(yīng)力,或支持CNT和石墨烯生長(zhǎng)。主要型號(hào)包含NPE-3000,NPE-3500,和NPE-4000。同時(shí),NANO MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動(dòng)RIE系統(tǒng)主要用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬,可以根據(jù)需要配置ICP實(shí)現(xiàn)快速深刻,DRIE系統(tǒng)可用于深硅刻蝕。主要型號(hào)包含NRE-3000,NRE-3500,NRE-4000,NDR-4000。 如果用戶同時(shí)有RIE和PECVD的需求,我們可以提供雙系統(tǒng)方案以節(jié)省空間和預(yù)算。

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