半導體專用氮氣發生器(腔體保護氣，干泵吹掃氣)

型號：NITROGEN-M-100/200

Peculiar針對LC/MS氮氣流量、純度、壓力的特殊要求專門設計了安全、高效、方便的半導體專用氮氣發生器，它可以產生純度高達99.5%的潔凈、干燥氮氣，符合半導體行業腔體保護氣，干泵吹掃氣要求，包含APCI及ESI接口。

半導體專用氮氣發生器(腔體保護氣，干泵吹掃氣)主要技術參數：

◎流量：0-100/200L/min  @100psi(7bar)

◎工作環境：5C-40℃   濕度80%

◎使用最高海拔：2200m

◎露點：<-55℃

◎顆粒：<0.01μm

◎滯留液體：無

◎鄰苯二甲酸：無

◎噪聲：<47dB(A)

◎開機純化時間：30min

◎功率：8000W

◎電力要求：220V 50Hz