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技術(shù)文章

紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用范圍

閱讀:1956          發(fā)布時(shí)間:2018-8-10

紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用范圍:

光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛,在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍,隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展,光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。

1、在LCDOLED生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗,可以極大的提高基體表面潤(rùn)濕性,增強(qiáng)基體表面的粘合力;

2、印制電路板生產(chǎn)中,對(duì)銅底板,印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì),在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板,當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí),光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。

3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高,晶格的微細(xì)化越來越密,要求表面的潔凈度越來越高,光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度,而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。

4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生。

5、在光盤的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備,可以提高光盤的質(zhì)量。

6、磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷,以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度,光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中,除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發(fā)沉積前,進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前,經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。

9、彩色濾光片生產(chǎn)中,光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。

10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中,經(jīng)過光照改質(zhì),不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層,產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。

11、光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后,鍍膜質(zhì)量更好。

12、樹脂透鏡光照后,能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。

13、對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑,以及帶有氧化膜的金屬表面處理,去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物,光清洗是十分有效的方法。

14、用于原子力顯微鏡應(yīng)用相關(guān)的0硅和氮化硅探針等表面處理。

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