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行業(yè)產(chǎn)品

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[供應]BX51M-金相顯微鏡
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  • BX51M-金相顯微鏡
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2023-12-13 21:00:05
有效期:
2023年12月13日 -- 2024年6月13日
已獲點擊:
188
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(聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

產(chǎn)品簡介

金相顯微鏡BX51M的顯微觀察技術(shù)所使用的偏振光是由一組濾鏡(檢偏振器和起偏振器)產(chǎn)生的。樣本特征會直接影響系統(tǒng)反射光的強度。該觀察法適用于觀察金相組織、礦物、LCD 和半導體材料。

詳細介紹

金相顯微鏡BX51M

暗視場可以讓用戶觀察來自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會先穿過照明裝置中的環(huán)形光學照明器件,然后在樣本上聚焦。樣本上的光線只是由Z 軸上的瑕疵反射形成的。因此,用戶可以觀測到比光學顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本,包括晶圓。

偏振光觀察法

該顯微觀察技術(shù)所使用的偏振光是由一組濾鏡(檢偏振器和起偏振器)產(chǎn)生的。樣本特征會直接影響系統(tǒng)反射光的強度。該觀察法適用于觀察金相組織(例,球墨鑄鐵中石墨的生長圖案)、礦物、LCD 和半導體材料。

微分干涉(DIC)觀察法

DIC 是一種顯微觀察技術(shù),可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異,用增強的對比度以浮雕或三維圖像的形式表現(xiàn)出來。該項基于偏振光的技術(shù),擁有三個專門設計的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適用于檢測高度差異極其微小的樣本,包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。

熒光觀察法

半導體晶圓上的顆粒

該項技術(shù)適用于觀察那些在受到專門設計的濾鏡(可以按照檢測需要制作)照明時會發(fā)出熒光(發(fā)出不同波長的光線)的樣本。該方法通過熒光染色,應用于觀測半導體晶圓表面的污物、抗蝕劑的殘渣和裂痕的檢測。可以添加選購的復消色差光源聚光透鏡系統(tǒng),從而為可見光到近紅外線范圍內(nèi)的色差進行補償。

IR(紅外線)觀察法

硅晶片層下的半導體電路

對使用了硅片、玻璃等易透射紅外線的電子設備的內(nèi)部進行無損檢測時,IR 觀察十分有效。IR 物鏡也可用于近紅外線技術(shù),如:拉曼光譜儀和YGA 激光修復應用。

處理濾鏡

OLYMPUS Stream 擁有各種濾鏡,可用于邊緣檢測、平滑處理和其它操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進行增強和修改處理后,圖像的特征變?yōu)榭梢暬?。為達到適宜效果,可使用預覽圖檢查或調(diào)整濾鏡的效果。

透射光觀察法

LCD彩色濾鏡

對于透明樣本,如,LCD、塑料和玻璃材料,可通過使用各種透射光聚光鏡實現(xiàn)真正的透射光觀察。使用透射光可以在明視場、暗視場、DIC 和偏振光中對樣本進行成像和檢查--所有這些都在一個便捷的系統(tǒng)里。

自動制作3D 圖像(EFI

硬幣細節(jié)

使用BX61 或外部電動調(diào)焦單元,便可以快速地記錄并組合超出焦深之外的樣本的圖像。只需一鍵操作,使用EFI 功能便可以將各個不同焦深的圖像合成一幅3D 圖像。終的3D數(shù)據(jù)可用于3D 觀察或用于測量高度和距離。

 

 

BX61

BX51

BX51M

BX41M-LED

光學系統(tǒng)

UIS2光學系統(tǒng)(無限遠校正)

機身

照明裝置

反射/透射

反射

反射(對應ESD功能)

外置12 V 100 W光源
光量預調(diào)開關(guān)
LED電壓指示
反射/透射光轉(zhuǎn)換開關(guān)

內(nèi)裝12 V 100 W光源
光量預調(diào)開關(guān)
LED電壓指示
反射/透射光轉(zhuǎn)換開關(guān)

內(nèi)裝12 V 100 W光源
光量預調(diào)開關(guān)
LED電壓指示

內(nèi)裝3 W白色LED光源
光量預調(diào)開關(guān)

對焦單元

電動調(diào)焦
行程25 mm
小刻度單位為0.01 μm

行程25 mm
微調(diào)旋鈕1圈的微調(diào)行程為100 μm
小刻度單位為1 μm
可設聚焦粗調(diào)上限停止位置,粗調(diào)旋鈕張力可調(diào)

大標本高度

25 mm(不包含臂長調(diào)節(jié)器)

65 mm(不包含臂長調(diào)節(jié)器)

觀察筒

廣角視場
(視場數(shù)為22

倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒
正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒

超寬視場
(視場數(shù)為26.5

倒置∶三目鏡筒
正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒

反射光
照明裝置

明視場等

BX-RLAA
電動明/暗視場轉(zhuǎn)換
電動孔徑光闌

BX-RLA2
100 W鹵素燈(可裝高亮度光源、光纖照明裝置)
明視場/暗視場/微分干涉/簡易偏振光
視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構(gòu))、明/暗視場法連動的ND濾鏡

BX-AKMA-LED/BX-KMA-LED
3 W白色LED照明
明視場/微分干涉/簡易偏振光
對應ESD功能
BX-AKMA-LED具有的功能:
斜射照明裝置
AS(帶中心輸出機構(gòu))
斜射照明的位置設置

反射光
熒光

BX-RFAA
電動六孔轉(zhuǎn)盤
內(nèi)置電動光閘
備有視場光闌和孔徑光闌

BX-URA2
100 W汞燈、75 W氙氣燈
六孔分光鏡組件(標準∶WBWG、WUBF等)
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構(gòu))及光閘機構(gòu)

透射光照明裝置

100 W鹵素燈
阿貝聚光鏡/長工作距離聚光鏡
內(nèi)置透射光濾鏡(LBDND25ND6

-

物鏡轉(zhuǎn)換器

明視場用

電動六孔

六孔、中心輸出六孔、七孔(電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件)

五孔、六孔(對應ESD功能)、七孔

明/暗視場用

電動五孔、電動六孔、中心輸出五孔

五孔、中心輸出五孔、六孔(電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件)

-

載物臺

帶左手(右手)用同軸驅(qū)動旋鈕的載物臺:76 (X) × 52 (Y) mm,張力可調(diào)
帶左手(右手)用同軸驅(qū)動旋鈕的大型載物臺:100 (X) × 105 (Y) mm,附設Y軸鎖定機構(gòu)

ESD性能

-

表面電阻108Ω以下,放電時間少于0.2*

外形尺寸

318(寬) × 602(長)× 541(高) mm

318(寬) × 602(長) × 480(高)mm

318(寬) × 602(長) × 480(高)mm

283(寬) × 455(長) × 480(高)mm

重量

25.5 kg
(機身約重11.4 kg

20.8 kg
(機身約重10.3 kg

19.5 kg
(機身約重9.8 kg

14 kg
(機身約重6.7 kg

 

BXFM

BXFM-S

光學系統(tǒng)

UIS2光學系統(tǒng)(無限遠校正)

機身

對焦單元

行程30 mm、微調(diào)旋鈕1圈的微調(diào)行程為200 μm、小刻度單位2 μm、粗調(diào)旋鈕張力可調(diào)

觀察筒

廣角視場
(視場數(shù)為22

倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒
正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒

超寬視場
(視場數(shù)為26.5

倒置∶三目鏡筒
正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒

反射光
照明裝置

明視場等

BX-RLA2
100 W鹵素燈(可裝高亮度光源、光纖照明裝置)
明視場/暗視場/微分干涉/簡易偏振光
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構(gòu))

U-KMAS
100 W鹵素燈光纖照明裝置
明視場/微分干涉/簡易偏振光

反射光
熒光

BX-URA2
100 W汞燈、75 W氙氣燈
六孔分光鏡組件(標準:WB、WG、WU+BF等)
備有視場光闌和孔徑光闌(帶中心輸出機構(gòu))及光閘機構(gòu)

-

物鏡轉(zhuǎn)換器

明視場用

六孔、中心輸出六孔、七孔(電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件)

明/暗視場用

五孔、中心輸出五孔、六孔轉(zhuǎn)盤(電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件)

外形尺寸

248 (寬) × 587 (長) × 249 (高) mm

394 (寬) × 334 (長) × 276 (高) mm

重量

9 kg(標準組合)

6.2 kg (標準組合)

         

 

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