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技術(shù)文章

金屬掩膜版該如何選購表面檢查燈?

閱讀:1554          發(fā)布時(shí)間:2021-11-26

LUYOR-3320新款LED平行光表面檢查燈可用于檢查金屬掩膜版的表面質(zhì)量

LUYOR-3320采用亮度為10顆大功率led光源,窄角度直射透鏡,光束集中,不照射操作者眼睛,不刺眼,適合長時(shí)間工作;可手持操作,也可以通過臺式支架作為臺式檢查燈使用。可以多臺組合,檢查各種尺寸屏幕,用戶也可以根據(jù)需求選擇多波段光源:白光、特殊綠光,黃光。

什么是金屬掩模版?

金屬掩模版又稱光罩:fine metal mask,縮寫:FMM.

光掩模版、掩膜版,英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK),材質(zhì):石英玻璃、金屬鉻和感光膠,該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底,在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠,成為一種感光材料,把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光后的底片的光掩模版,然后應(yīng)用于對集成電路進(jìn)行投影定位,通過集成電路光刻機(jī)對所投影的電路進(jìn)行光蝕刻,其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓猓@影,去感光膠,最后應(yīng)用于光蝕刻。

什么是光刻?

光刻(英語:photolithography)是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。

首先,通過金屬化過程,在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)后可以被特定溶液(顯影液)溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上,可以對光刻膠進(jìn)行選擇性照射(曝光)。然后使用前面提到的顯影液,溶解掉被照射的區(qū)域,這樣,光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過烘干措施,改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。

上述步驟完成后,就可以對襯底進(jìn)行選擇性的刻蝕或離子注入過程,未被溶解的光刻膠將保護(hù)襯底在這些過程中不被改變。

刻蝕或離子注入完成后,將進(jìn)行光刻的最后一步,即將光刻膠去除,以方便進(jìn)行半導(dǎo)體器件制造的其他步驟。通常,半導(dǎo)體器件制造整個(gè)過程中,會進(jìn)行很多次光刻流程。生產(chǎn)復(fù)雜集成電路的工藝過程中可能需要進(jìn)行多達(dá)50步光刻,而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些。

金屬掩模版產(chǎn)品圖片1

圖片1.png

金屬掩膜版產(chǎn)品圖片2

圖片2.png

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