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[供應(yīng)]白光干涉測厚儀TF200-XNIR 返回列表頁
貨物所在地:廣東廣州市
更新時間:2024-09-12 21:00:06
有效期:2024年9月12日 -- 2025年3月12日
已獲點(diǎn)擊:486
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白光干涉測厚儀TF200-XNIR
儀器介紹
TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理,對薄膜進(jìn)行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200根據(jù)反射回來的干涉光,用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。
白光干涉測厚儀TF200-XNIR
產(chǎn)品特點(diǎn)
快速、準(zhǔn)確、無損、靈活、易用、性價比高
應(yīng)用案例
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等)
LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)
LED (SiO2、光刻膠ITO等)
觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)
汽車(防霧層、Hard Coating DLC等)
醫(yī)學(xué)(聚對二甲苯涂層球囊/導(dǎo)尿管壁厚藥膜等)
技術(shù)參數(shù)
型號 | TF200-VIS | TF200-EXR | TF200-DUV | TF200-XNIR |
波長范圍 | 380-1050nm | 380-1700nm | 190-1100nm | 900-1700nm |
厚度范圍 | 50nm-40um | 50nm-300um | 1nm-30um | 10um-3mm |
準(zhǔn)確度1 | 2nm | 2nm | 1nm | 10nm |
精度 | 0.2nm | 0.2nm | 0.2nm | 3nm |
入射角 | 90° | 90° | 90° | 90° |
樣品材料 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 |
測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 |
光斑尺寸2 | 2mm | 2mm | 2mm | 2mm |
是否能在線 | 是 | 是 | 是 | 是 |
掃描選擇 | XY可選 | XY可選 | XY可選 | XY可選 |
注:1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。
2.可選微光斑附件。
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